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0.87Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3-0.13PbTiO_3薄膜的MOSD+Dipping制备
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作者 王卓 杨长红 +1 位作者 王民 房昌水 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期817-819,共3页
采用MOSD+Dipping方法在P型Si(111)衬底上制备了0.87Na0.5Bi0.5TiO3-0.13PbTiO3薄膜。用X射线衍射技术研究了薄膜的结构和结晶性。用原子力显微镜分析了薄膜的表面形貌。同时还研究了薄膜的存储性能。
关键词 掺铅钛酸铋钠 铁电薄膜 制备 MOSD法 Dipping法 表面形貌 存储性能
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