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热处理对制备纳米氧化铟锡(ITO)粉末的影响
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作者 张永红 陈明飞 《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 2003年第2期18-20,共3页
以共沸蒸馏工艺辅助的共沉淀法制备了纳米氧化铟 氧化锡 (ITO)粉体 ,研究了不同热处理温度对制备粉体的影响。结果表明 ,随着热处理温度的提高 ,粉体发生从四方结构向体心立方结构转变 ,晶粒出现长大现象 ,比表面积变化明显 ,化学组分... 以共沸蒸馏工艺辅助的共沉淀法制备了纳米氧化铟 氧化锡 (ITO)粉体 ,研究了不同热处理温度对制备粉体的影响。结果表明 ,随着热处理温度的提高 ,粉体发生从四方结构向体心立方结构转变 ,晶粒出现长大现象 ,比表面积变化明显 ,化学组分保持高纯状态。综合比较 ,在 70 0~ 80 0℃进行热处理可以得到尺寸均匀、晶形完整的纳米级粉体。 展开更多
关键词 热处理 氧化-氧化锡 ito 共沸蒸馏 纳米粉末
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氧化铟和氧化锡混合粉体喷雾造粒工艺研究
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作者 罗文 郝振华 +3 位作者 李树荣 孟将 陈杰 刘洋 《郑州大学学报(工学版)》 CAS 北大核心 2022年第2期98-104,共7页
氧化铟锡(ITO)原料粉作为影响靶材制备的关键性因素,对所制备出的靶材质量有着重要影响,为了改善纳米氧化铟锡混合粉体的压制性能,提高ITO原料粉的质量,将纳米氧化铟和氧化锡混合粉体与分散剂和黏结剂混合之后球磨,再采用压力喷雾造粒... 氧化铟锡(ITO)原料粉作为影响靶材制备的关键性因素,对所制备出的靶材质量有着重要影响,为了改善纳米氧化铟锡混合粉体的压制性能,提高ITO原料粉的质量,将纳米氧化铟和氧化锡混合粉体与分散剂和黏结剂混合之后球磨,再采用压力喷雾造粒技术制备近球形氧化铟锡造粒粉。分别研究浆料黏度、黏结剂含量、浆料固含量和进风温度对造粒氧化铟锡粉体微观表面形貌、松装密度、振实密度以及粒度分布的影响。结果表明:当黏结剂聚乙烯醇(PVA)质量分数为1%,氧化铟锡浆料固含量为50%,以及压力喷雾造粒机进风温度为200℃时,可以得到性能良好的氧化铟锡造粒粉。采用喷雾造粒工艺可以有效提高纳米氧化铟锡混合粉体的松装密度和振实密度,改善其压制性能,有利后续烧结获得高密度的ITO靶材。 展开更多
关键词 氧化 氧化锡 喷雾造粒 ito靶材 黏结剂质量分数
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透光导电ITO膜的制备及其光电特性的研究 被引量:16
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作者 周引穗 王俊 +4 位作者 杨晓东 董庆彦 高爱华 胡晓云 陆治国 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第9期1077-1080,共4页
采用溶胶 凝胶方法制备ITO膜 ,并从制备工艺上研究了各种因素对ITO膜光电特性的影响 最后制出的ITO膜厚度约为 5 0nm ,在可见光区平均透射比达 97% ,最高达 99.5 5 % ,电阻率在 2 .0Ω·cm左右 ,最低达到 0 .
关键词 制备 ito 溶胶-凝胶 光电特性 氧化 透光导电膜
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两种方法制备ITO薄膜的红外特性分析 被引量:14
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作者 周平 黄昱勇 +3 位作者 林宇翔 李海峰 刘旭 顾培夫 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第8期985-988,共4页
比较了用电束加热蒸发法和直流磁控溅射法制备的氧化锡铟 (ITO)薄膜在红外波段的光学特性 实验发现 ,通过直流磁控溅射在常温下制备的ITO薄膜在红外波段折射率稳定、消光系数小 ,比电子束加热蒸发制备的膜有较高的透过率 在波长 1 5 5... 比较了用电束加热蒸发法和直流磁控溅射法制备的氧化锡铟 (ITO)薄膜在红外波段的光学特性 实验发现 ,通过直流磁控溅射在常温下制备的ITO薄膜在红外波段折射率稳定、消光系数小 ,比电子束加热蒸发制备的膜有较高的透过率 在波长 1 5 5 0nm附近的透过率可达 86%以上 ,消光系数约为 0 0 4 ,方电阻最低为 1 0 0Ω/□ . 展开更多
关键词 红外特性 ito薄膜 光学特性 磁控溅射 电子束加热蒸发 氧化锡薄膜 制备方法
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ITO薄膜微结构对其光电性质的影响 被引量:8
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作者 曾明刚 陈松岩 +3 位作者 陈谋智 王水菊 林爱清 邓彩玲 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2004年第4期496-499,共4页
采用磁控溅射法在玻璃衬底上沉积掺锡氧化铟(ITO)薄膜,用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)技术和电导率、透射光谱测试技术,研究真空低温退火后ITO薄膜微结构、薄膜电导率、光谱透射率的变化.研究表明,真空低温退火使得晶体微结构... 采用磁控溅射法在玻璃衬底上沉积掺锡氧化铟(ITO)薄膜,用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)技术和电导率、透射光谱测试技术,研究真空低温退火后ITO薄膜微结构、薄膜电导率、光谱透射率的变化.研究表明,真空低温退火使得晶体微结构得到改善,晶体呈(222)择优取向,晶体的结晶颗粒变大.不同价态的Sn对In3+的替代引起晶格结构和ITO薄膜的载流子浓度的变化,从而影响到薄膜的导电性和透射率,证明了真空退火下氧化铟薄膜微结构变化是影响薄膜电导率与透射率的主要原因,为研制新型光电器件的透明电极提供了参考. 展开更多
关键词 ito薄膜 微结构 光电性质 磁控溅射 氧化薄膜 电导率 透射率
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细胞色素C_(551)在ITO电极上的直接电化学 被引量:5
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作者 严捷 李经建 +1 位作者 张波 蔡生民 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2001年第12期1126-1128,共3页
在不加任何电子转移促进剂的条件下,用循环伏安法(CV)和微分脉冲伏安法(DPV)观察到细胞色素C551在ITO导电玻璃上的直接电化学行为.结果显示电极反应过程为准可逆性质.计算得到细胞色素C551的扩散系数、式电位和... 在不加任何电子转移促进剂的条件下,用循环伏安法(CV)和微分脉冲伏安法(DPV)观察到细胞色素C551在ITO导电玻璃上的直接电化学行为.结果显示电极反应过程为准可逆性质.计算得到细胞色素C551的扩散系数、式电位和异相电子转移标准速率常数,并对其在ITO导电玻璃电极上的电子转移机制进行了初步分析. 展开更多
关键词 择杂氧化锡 细胞色素C551 ito电极 直接电化学 电子转移 导电玻璃电极
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ITO衬底上PZT膜的性能研究 被引量:1
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作者 陈汉松 李金华 李坤 《江苏石油化工学院学报》 1999年第3期48-51,共4页
用Sol- Gel 锆钛酸铅(PZT) 溶胶, 在CVD 法沉积生成的掺锡氧化铟(ITO) / 玻璃衬底上旋转涂胶成膜。经快速热退火(RTA) 处理后, 用X 射线衍射(XRD) 测试了膜的结晶取向, 用RT66A 测试了膜的电... 用Sol- Gel 锆钛酸铅(PZT) 溶胶, 在CVD 法沉积生成的掺锡氧化铟(ITO) / 玻璃衬底上旋转涂胶成膜。经快速热退火(RTA) 处理后, 用X 射线衍射(XRD) 测试了膜的结晶取向, 用RT66A 测试了膜的电学性能。结果表明, Sol- Gel PZT膜在CVD 法生长的ITO 衬底上能正常结晶, 但结晶温度比在Pt 衬底上略高, 结晶取向以< 110 > 为主取向。ITO 衬底上厚度为0-64 μm 的PZT 膜的漏电约为5 ×10 - 7 A/m m2 , 比Pt 衬底上高不到一个数量级。8 V 时膜的有效介电常数Kef 约1 380 , 剩余极化强度Pr= 13 μC/cm2 , 与Pt 衬底上无明显差别。CVDITO/ 玻璃衬底可取代昂贵的Pt 衬底作铁电薄膜的性能研究。 展开更多
关键词 锆钛酸铅 氧化 铁电薄膜 衬底 ito 薄膜
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靶材密度对射频磁控溅射法制备ITO薄膜性能的影响 被引量:1
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作者 黄玉音 肖渊渊 朱归胜 《电工材料》 CAS 2013年第1期41-44,共4页
以不同密度的氧化锡铟(ITO)靶材为原料,采用射频磁控溅射法,在室温下沉积并经750℃退火,获得了电阻率为1.56×10 4Ω.cm、可见光透过率为87%的ITO薄膜。对不同密度靶材制备的ITO薄膜的微观结构、电学及光学性能进行了表征与探讨。... 以不同密度的氧化锡铟(ITO)靶材为原料,采用射频磁控溅射法,在室温下沉积并经750℃退火,获得了电阻率为1.56×10 4Ω.cm、可见光透过率为87%的ITO薄膜。对不同密度靶材制备的ITO薄膜的微观结构、电学及光学性能进行了表征与探讨。结果表明,采用射频磁控溅射法时,不同靶材密度对ITO薄膜的沉积速率、结构、电学和光学性能均无显著影响。该结果为采用低密度ITO靶材制备高品质ITO薄膜提供了一个新的思路。 展开更多
关键词 氧化锡(ito) 靶材密度 薄膜 射频磁控溅射
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ITO靶材在磁控溅射过程中的毒化现象 被引量:19
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作者 孔伟华 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第5期1083-1088,共6页
研究直流磁控反应溅射ITO膜过程中ITO靶材的毒化现象,用XRD、EPMA、LECO测氧仪等手段对毒化发生的机理进行分析,并对若干诱导因素进行讨论,研究表明ITO靶材毒化是由于In2O3。主相分解为In2O造成的,靶材性能及溅射工艺缺陷都可能诱导毒... 研究直流磁控反应溅射ITO膜过程中ITO靶材的毒化现象,用XRD、EPMA、LECO测氧仪等手段对毒化发生的机理进行分析,并对若干诱导因素进行讨论,研究表明ITO靶材毒化是由于In2O3。主相分解为In2O造成的,靶材性能及溅射工艺缺陷都可能诱导毒化发生. 展开更多
关键词 ito靶材 直流磁控反应溅射 毒化现象 氧化 氧化锡 导电氧化物半导体 薄膜 制备
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Preparation and Characterization of Indium Doped Tin Oxide (ITO) via a Solvothermal Method
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作者 Anh Khuong Quoc Nguyen Van Thi Thanh Ho 《Journal of Environmental Science and Engineering(B)》 2016年第8期379-384,共6页
Tin-doped Indium Oxide (ITO) has been successfully prepared via solvothermal method with a mixture of Indium(Ill) acetylacetonate and Tin(IV) bis(acetylacetonate)dichioride in oleyamine solvent under the condi... Tin-doped Indium Oxide (ITO) has been successfully prepared via solvothermal method with a mixture of Indium(Ill) acetylacetonate and Tin(IV) bis(acetylacetonate)dichioride in oleyamine solvent under the condition of the different reaction time from 12 h to 48 h for the first time. The morphology, phase composition and particle size of the ITO powder were characterized by TEM and XRD. Two significant properties required for ITO samples to become noncarbon support for Pt in PEMFCs including specific surface area and electrical conductivity were studied. 展开更多
关键词 ito indium doped tin oxide SOLVOTHERMAL CONDUCTIVITY NANOPARTICLES
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高性能铟锡靶材制备技术
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《中国有色冶金》 CAS 2013年第2期34-34,共1页
主要技术内容:掺锡氧化铟(Indium Tin Oxide,简称ITO)材料是一种n型半导体材料,该类材料包括ITO粉末、靶材、导电浆料及ITO透明导电薄膜,主要应用于平板显示器(如LCD)、防辐射玻璃、太阳能电池板等领域。日本、美国和德国于上世... 主要技术内容:掺锡氧化铟(Indium Tin Oxide,简称ITO)材料是一种n型半导体材料,该类材料包括ITO粉末、靶材、导电浆料及ITO透明导电薄膜,主要应用于平板显示器(如LCD)、防辐射玻璃、太阳能电池板等领域。日本、美国和德国于上世纪70年代研制ITO靶材,目前已形成规模产业,主要采用冷压一烧结工艺成形和致密化,同时兼顾热压和热等静压工艺, 展开更多
关键词 氧化 ito靶材 制备技术 ito透明导电薄膜 半导体材料 性能 太阳能电池板 平板显示器
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原位聚合接枝法制备纳米ITO/PEMA乙醇分散液的研究
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作者 邓丽丽 《广州化工》 CAS 2013年第7期80-82,共3页
将纳米掺锡氧化铟(nano-ITO)粒子经过超声分散和偶联剂处理后,以甲基丙烯酸乙酯为单体,用原位聚合接枝法制备了纳米ITO/PEMA乙醇分散液。讨论了偶联剂种类、m(EMA)∶m(ITO)比值、引发剂BPO用量对纳米ITO/PEMA乙醇分散液的分散稳定性的... 将纳米掺锡氧化铟(nano-ITO)粒子经过超声分散和偶联剂处理后,以甲基丙烯酸乙酯为单体,用原位聚合接枝法制备了纳米ITO/PEMA乙醇分散液。讨论了偶联剂种类、m(EMA)∶m(ITO)比值、引发剂BPO用量对纳米ITO/PEMA乙醇分散液的分散稳定性的影响。确定了合适的偶联剂为Z-6020,最优工艺参数为m(EMA)∶m(ITO)=2,ω(BPO)=2%。往聚丙烯酸酯树脂加入该纳米ITO/PEMA乙醇分散液所制得的涂料,其涂膜同时具有良好的可见光透过率和近红外光阻隔性能。 展开更多
关键词 纳米氧化(nano—ito) 原位聚合接枝法 乙醇分散液 隔热涂料
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发光二极管表面结构对出光特性的影响 被引量:4
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作者 张玉敏 邹德恕 +1 位作者 韩金茹 沈光地 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期174-177,共4页
用传输矩阵法模拟计算了AlGaInP发光二极管(LED)不同表面结构的光学特性,用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)或磁控溅射掺铟氧化锡(ITO)设备,在带有DBR结构的外延衬底上制备出具有不同表面层结构的LED。通过实验结果对比表明,表面生长λ... 用传输矩阵法模拟计算了AlGaInP发光二极管(LED)不同表面结构的光学特性,用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)或磁控溅射掺铟氧化锡(ITO)设备,在带有DBR结构的外延衬底上制备出具有不同表面层结构的LED。通过实验结果对比表明,表面生长λ/4nSiON加λ/2nITO增透膜结构复合增透膜的LED,器件光学性能提高最佳,在20 mA注入电流下,光强和光通量分别达到141.7 mcd和0.473 3 lm。比同样结构的无增透膜LED轴向光强和光通量分别提高138%和91%。 展开更多
关键词 ALGAINP发光二极管 增透膜 传输矩阵法 等离子体增强化学气相沉积(PECVD) 氧化锡(ito)
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