掺锰氢氧化镍的结构与电化学性能(英文)

采用化学共沉淀法制备了锰取代的氢氧化镍样品,应用X RD 技术对不同锰含量样品的相结构进行了表征,并用恒电流充放电、电流脉冲弛豫法和电化学阻抗技术研究了样品的电化学行为. X RD 结果显示:锰含量少于20%时,样品主要由β相组成;而当锰含量达到28.3% 时,可以得到具有纯α相结构的样品.电化学研究结果表明:掺锰的氢氧化镍样品具有优良的电化学循环稳定性;锰的掺杂提高了氢氧化镍电极的析氧电位,增大了样品的质子扩散系数;具有较低锰含量的氢氧化镍样品显示了较大的放电容量和较高的放电电位.

掺锰氢氧化镍的机械球磨工艺及电化学性能研究

采用机械球磨法,通过确定最佳的工艺条件(锰掺杂量为20%,球磨时间15 min,球料比8∶1,球磨机转速350 r/min,陈化温度70℃),制备出电化学性能良好的掺锰Ni(OH)2材料.经X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)测试,结果表明,掺锰氢氧化镍保持了β-Ni(OH)2的晶体结构,颗粒呈不规则形状,粒径约5μm.恒电流充放电测试结果表明,该材料的0.2 C放电比容量达到261 mAh/g,经过300次1 C循环后容量仍保持初始容量的90%.