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掺镁ZnO基薄膜体声波谐振器的制备和性能研究 被引量:1
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作者 卢学良 段力 +2 位作者 刘一剑 汪军 张亚非 《压电与声光》 CAS CSCD 北大核心 2017年第1期11-14,18,共5页
固体装配型薄膜体声波谐振器(FBAR)机械强度好,尺寸小,可在硅片上三维立体集成,灵敏度大,在未来的通信设备制作高带通滤波器和物联网传感器中展现出广泛的应用前景。通过射频磁控溅射系统制备了以掺镁ZnO(MgxZn1-xO)作为压电层的固体装... 固体装配型薄膜体声波谐振器(FBAR)机械强度好,尺寸小,可在硅片上三维立体集成,灵敏度大,在未来的通信设备制作高带通滤波器和物联网传感器中展现出广泛的应用前景。通过射频磁控溅射系统制备了以掺镁ZnO(MgxZn1-xO)作为压电层的固体装配型薄膜体声波谐振器,研究了掺镁ZnO对薄膜体声波谐振器谐振性能的影响。利用场发射扫描电镜(FESEM)对FBAR的结构进行了微观表征。比较了不同掺镁ZnO靶材对于晶向和谐振性能的影响。通过优化条件,制备出了性能优越的FBAR,其谐振频率在1.8~2.4GHz,品质因数(Q)可达800,回波损耗可达-30dB。 展开更多
关键词 zno(mgxzn1-xo) 薄膜体声波谐振器 谐振频率 射频磁控溅射 传感器
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Ultraviolet and Deep-Ultraviolet Emissions from c-MgxZn1-xO/MgO Ultrathin Multilayer Heterostructures
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作者 余萍 邱东江 吴惠桢 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2005年第10期2688-2691,共4页
Cubic phase MgxZn1-x O/MgO multilayer heterostructures (c-Mgx Zn1-xO/MgO MHs) are grown on Si(100) and quartz substrates by reactive electron beam evaporation at low temperature (250℃). Cross-sectional morpholo... Cubic phase MgxZn1-x O/MgO multilayer heterostructures (c-Mgx Zn1-xO/MgO MHs) are grown on Si(100) and quartz substrates by reactive electron beam evaporation at low temperature (250℃). Cross-sectional morphology observations by field-emission scanning electron microscopy show the legible interfaces of c-MgxZn1-x O/MgO MHs. X-ray diffraction demonstrates that c-MgxZn1-xO/MgO MHs are of highly (100)-oriented. Optical trans- mission investigations of c-Mgx Zn1-x O/MgO MHs on quartz substrates reveal the coexistence of the two phases, c-MgxZn1-xO and MgO. Photoluminescence examination indicates the emergence of deep-ultraviolet emission centred at about 290nm along with the blue shift of the ultraviolet emission from 405nm to 39Gnm when the nominal thickness of c-MgxZn1-xO well layers of MHs is diminished to 3nm, which is probably originated from quantum confinement effect. 展开更多
关键词 zno/ZNMGO MULTIQUANTUM WELLS THIN-FILMS ROOM-TEMPERATURE QUANTUM-WELLS BAND-GAP mgxzn1-xo GROWTH SUBSTRATE SI(111) ALLOY
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Mg_xZn_(1-x)O单晶薄膜和MgZnO/ZnO异质结构的光学性质 被引量:3
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作者 吴春霞 吕有明 +5 位作者 申德振 李炳辉 张振中 刘益春 张吉英 范希武 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第10期1258-1263,共6页
报道了利用等离子辅助分子束外延技术 ,在蓝宝石 c平面上外延生长的 Mgx Zn1 - x O单晶薄膜以及 Mg Zn O/Zn O异质结构的光学性质 .室温下随着 Mg浓度增加 ,合金薄膜样品的发光峰与吸收边均向高能侧移动 .研究了样品紫外发光的起因 ,将 ... 报道了利用等离子辅助分子束外延技术 ,在蓝宝石 c平面上外延生长的 Mgx Zn1 - x O单晶薄膜以及 Mg Zn O/Zn O异质结构的光学性质 .室温下随着 Mg浓度增加 ,合金薄膜样品的发光峰与吸收边均向高能侧移动 .研究了样品紫外发光的起因 ,将 Mgx Zn1 - x O合金薄膜的发光归结为束缚激子的复合 .在 Mg0 .0 8Zn0 .92 O/ Zn O样品中 ,观察到了分别来自于 Zn O层和 Mg Zn O盖层的发光和吸收 ,并将其归因于来自 Zn O层的自由激子和 Mg Zn 展开更多
关键词 等离子体辅助分子束外延 mgxzn1-xo合金 Mgzno/zno异质结构 光致发光谱 反射式高能电子衍射
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Effects of ZnO Buffer Layer Thickness on Properties of Mg_xZn_(1-x)O Thin Films Deposited by MOCVD 被引量:1
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作者 DONG Xin LIU Da-li +4 位作者 DU Guo-tong ZHANG Yuan-tao ZHU Hui-chao YAN Xiao-long GAO Zhong-min 《Chemical Research in Chinese Universities》 SCIE CAS CSCD 2005年第5期583-586,共4页
High-quality MgxZn1-xO thin films were grown on sapphire(0001 ) substrates with a ZnO buffer layer of different thicknesses by means of metal-organic chemical vapor deposition. Diethyl zinc, bis-cyclopentadienyl-Mg ... High-quality MgxZn1-xO thin films were grown on sapphire(0001 ) substrates with a ZnO buffer layer of different thicknesses by means of metal-organic chemical vapor deposition. Diethyl zinc, bis-cyclopentadienyl-Mg and oxygen were used as the precursor materials. The crystalline quality, surface morphologies and optical properties of the Mg, Zn1-xO films were investigated by X-ray diffraction, atomic force microscopy and photoluminescence spectrometry. It was shown that the quality of the MgxZn1-xO thin films depends on the thickness of the ZnO buffer layer and an Mg, Zn1-xO thin film with a ZnO buffer layer whose thickness was 20 nm exhibited the best crystal-quality, optical properties and a flat and dense surface. 展开更多
关键词 mgxzn1-xo zno Buffer layer Sapphire substrate MOCVD AFM
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Magnesium incorporation efficiencies in Mg_xZn_(1-x)O films on ZnO substrates grown by metalorganic chemical vapor deposition 被引量:1
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作者 胡启昌 丁凯 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第6期465-470,共6页
We investigate the magnesium(Mg) incorporation efficiencies in MgxZn1-xO films on c-plane Zn-face ZnO substrates by using metalorganic chemical vapor deposition(MOCVD) technique. In order to deposit high quality M... We investigate the magnesium(Mg) incorporation efficiencies in MgxZn1-xO films on c-plane Zn-face ZnO substrates by using metalorganic chemical vapor deposition(MOCVD) technique. In order to deposit high quality MgxZn1-xO films,atomically smooth epi-ready surfaces of the hydrothermal grown ZnO substrates are achieved by thermal annealing in O2 atmosphere and characterized by atomic force microscope(AFM). The AFM, scanning electron microscope(SEM),and x-ray diffraction(XRD) studies demonstrate that the MgxZn1-xO films each have flat surface and hexagonal wurtzite structure without phase segregation at up to Mg content of 34.4%. The effects of the growth parameters including substrate temperature, reactor pressure and Ⅵ/Ⅱ ratio on Mg content in the films are investigated by XRD analysis based on Vegard's law, and confirmed by photo-luminescence spectra and x-ray photoelectron spectroscopy as well. It is indicated that high substrate temperature, low reactor pressure, and high Ⅵ/Ⅱratio are good for obtaining high Mg content. 展开更多
关键词 mgxzn1-xo MOCVD incorporation efficiency zno bulk crystal
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Mg_xZn_(1-x)O复合薄膜带隙展宽的研究 被引量:4
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作者 王玉新 臧谷丹 +4 位作者 崔潇文 赵帅 王磊 李真 刘子伟 《辽宁师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2018年第2期43-47,共5页
利用溶胶-凝胶旋涂工艺在普通玻璃基底上生长本征ZnO薄膜和Mg_xZn_(1-x)O复合薄膜.采用X射线衍射仪(XRD)、紫外可见分光光度计(UV-vis)、光致发光(PL)等测试手段对样品进行表征,分别对半导体合金薄膜的晶格参数与结构、结晶质量、光学... 利用溶胶-凝胶旋涂工艺在普通玻璃基底上生长本征ZnO薄膜和Mg_xZn_(1-x)O复合薄膜.采用X射线衍射仪(XRD)、紫外可见分光光度计(UV-vis)、光致发光(PL)等测试手段对样品进行表征,分别对半导体合金薄膜的晶格参数与结构、结晶质量、光学透过率及其禁带宽度进行分析与研究.比较Mg_xZn_(1-x)O薄膜与本征ZnO薄膜的XRD图谱后发现,Mg元素可提高薄膜的结晶质量,但是复合薄膜的c轴择优取向没有因为Mg元素的引入而得到改善.随着Mg元素掺杂量的增加,Mg_xZn_(1-x)O(x=0.10、0.20、0.30)复合薄膜的带隙随之变宽,薄膜组分为Mg0.20Zn0.80O和Mg0.30Zn0.70O时,光致发光谱中出现了强度较大的紫外发光峰,组分为Mg0.20Zn0.80O薄膜的带隙展宽效果较为明显且光学透过率较优. 展开更多
关键词 溶胶凝胶法 zno薄膜 mgxzn1-xo薄膜 光致发光 带隙展宽
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纤锌矿结构ZnO/Mg_xZn_(1-x)O量子阱中带间光吸收的尺寸效应和三元混晶效应
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作者 谷卓 班士良 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2014年第10期372-377,共6页
对于纤锌矿结构ZnO/MgxZn1-xO有限深单量子阱结构,考虑内建电场、导带弯曲及材料掺杂对实际异质结势的影响,利用有限差分法和自洽法数值求解Schr?dinger方程和Poisson方程,获得电子(空穴)的本征能级和本征波函数.进而,采用费米黄金法则... 对于纤锌矿结构ZnO/MgxZn1-xO有限深单量子阱结构,考虑内建电场、导带弯曲及材料掺杂对实际异质结势的影响,利用有限差分法和自洽法数值求解Schr?dinger方程和Poisson方程,获得电子(空穴)的本征能级和本征波函数.进而,采用费米黄金法则讨论带间光吸收的尺寸效应和三元混晶效应.结果表明:三元混晶材料MgxZn1-xO中Mg组分的增加会增强垒层和阱层的内建电场强度,使得电子(空穴)平均位置靠近左(右)垒,导致带间跃迁吸收峰呈指数减小且发生蓝移;ZnO/MgxZn1-xO量子阱带间跃迁吸收峰随阱宽增大而减小,吸收峰发生红移.所得结果可为改善异质结构材料和器件的光电性能提供理论指导,以期获得实际应用所需的光学吸收频谱和波长. 展开更多
关键词 zno mgxzn1-xo量子阱 带间光吸收 三元混晶效应 尺寸效应
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