采用准分子激光退火的室温沉积ITiO薄膜的性能研究

采用室温磁控溅射的方法在玻璃衬底上沉积掺Ti氧化铟薄膜，并在真空中采用XeCl准分子激光进行退火，样品的光学、电学性能、相结构分别采用分光光度计、霍尔效应测试仪和X射线衍射仪进行测试。结果表明，功率为100～150mJ／cm^2的准分子激光照射可以使薄膜由无定形态转变为结晶态，激活所掺杂的Ti原子，降低薄膜的电阻率；增大退火功率还可以进一步降低载流子浓度，提高薄膜的透过率。经150mJ／cm^2准分子激光退火的掺Ti氧化铟薄膜，其电阻率为6．93×10^-4Ω·cm，透过率达到了88．4％。