基于氧化铝模板原位制备Ni/Al-LDHs薄膜的工艺及性能研究

采用电化学阳极氧化铝模板提供Al3+,在Ni(NO3)2和NH4NO3溶液中采用原位生长法制备了Ni/Al-NO3-LDHs薄膜,在弱酸性条件下通过离子交换将磺基水杨酸阴离子引入Ni/Al-NO3-LDHs薄膜层间,制备了磺基水杨酸/LDHs复合薄膜,优化了工艺条件,并借助XRD、FT-IR、SEM等手段对薄膜进行了结构和形貌分析。结果表明,磺基水杨酸阴离子成功插层于LDHs薄膜层间,层间距由0.883 nm增大为1.153 nm,NO-3离子在1 384 cm-1的特征峰基本消失,同时出现了磺基水杨酸的特征峰。SEM照片显示,LDHs晶片垂直于Al基底生长。电化学腐蚀和UV-Vis分析表明,LDHs薄膜具有良好的耐蚀性和优异的紫外阻隔性能。

基于氧化镍模板Ni/Al-LDHs/Ni薄膜的制备及其性能研究

采用电化学阳极氧化镍模板和铝片分别提供Ni^(2+)和Al^(3+),在NH_4NO_3溶液中原位生长法制备了Ni/Al-NO_3-LDHs/Ni薄膜,在弱碱性条件下,通过离子交换将对甲苯磺酸阴离子引入Ni/Al-NO_3-LDHs/Ni薄膜层间,制备了对甲苯磺酸/LDHs/Ni复合薄膜,优化了工艺条件;并借助XRD、FT-IR、SEM等手段对薄膜进行了结构和形貌分析。结果表明,对甲苯磺酸阴离子成功插层于LDHs/Ni薄膜层间,层间距由0.701nm增大至1.216nm,NO_3^-离子在1 384cm^(-1)的特征峰消失,同时出现了对甲苯磺酸阴离子的特征峰。SEM显示,LDHs晶片垂直于Ni基底生长。电化学腐蚀和UV-Vis分析表明,LDHs/Ni薄膜具有良好的耐蚀性和优异的紫外阻隔性能。