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PE3061设备晶圆位置偏差的产品识别技术分析
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作者 葛华 李树平 +1 位作者 王银海 马梦杰 《集成电路应用》 2024年第3期64-65,共2页
阐述LPE3061外延设备作为MOS产品外延生产的主力机台,生产过程中存在硅片位置偏离基座坑位的搭边异常现象。通过分析产品参数均匀性、产品外观变异性,探究现有产品探测识别机制的边界条件与适用性。
关键词 集成电路 外延生产 反应圈 搭边识别
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