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PE3061设备晶圆位置偏差的产品识别技术分析
1
作者
葛华
李树平
+1 位作者
王银海
马梦杰
《集成电路应用》
2024年第3期64-65,共2页
阐述LPE3061外延设备作为MOS产品外延生产的主力机台,生产过程中存在硅片位置偏离基座坑位的搭边异常现象。通过分析产品参数均匀性、产品外观变异性,探究现有产品探测识别机制的边界条件与适用性。
关键词
集成电路
外延生产
反应圈
搭边识别
下载PDF
职称材料
题名
PE3061设备晶圆位置偏差的产品识别技术分析
1
作者
葛华
李树平
王银海
马梦杰
机构
南京国盛电子有限公司
出处
《集成电路应用》
2024年第3期64-65,共2页
文摘
阐述LPE3061外延设备作为MOS产品外延生产的主力机台,生产过程中存在硅片位置偏离基座坑位的搭边异常现象。通过分析产品参数均匀性、产品外观变异性,探究现有产品探测识别机制的边界条件与适用性。
关键词
集成电路
外延生产
反应圈
搭边识别
Keywords
integrated circuits
epitaxial production
reaction loops
edge recognition
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
TN322.8 [电子电信—物理电子学]
TN304 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
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作者
出处
发文年
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1
PE3061设备晶圆位置偏差的产品识别技术分析
葛华
李树平
王银海
马梦杰
《集成电路应用》
2024
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