辉光放电光谱法测定钛合金中氢元素

本文建立了利用辉光放电光谱仪测定钛合金中氢元素的方法。主要考察了剥蚀时间、功率、压强、积分时间等仪器参数对测定结果的影响。磨抛机转速控制在300r·min^(-1),用400目砂纸打磨,800目砂纸抛光,对测试样品进行处理。在最佳测试条件下,剥蚀时间50s,功率65W,压强850Pa,积分时间30s,用有证标准物质绘制工作曲线,工作曲线线性相关系数r≥0.995。使用标准物质进行了精密度和准确度实验,氢测定值的RSD(n=7)小于10.0%,同时满足标准物质的扩展不确定度,后续进行了惰性气体熔融-红外法与本方法之间的比对,检测结果一致。结果表明,该方法的精密度好、准确度高。

辉光放电光谱法在镀锌板检测分析的应用

辉光放电光谱法可同时完成镀锌板基体化学成分分析和镀层厚度、镀层重量的检测。通过对不同电极尺寸、吹扫条件、测定压力及测定功率下的结果进行比对分析,选择出了最佳测定条件,确定了各分析元素的测定下限;通过分析方法间比对,精密度、准确度试验,建立了测定镀锌板基体成分、镀层厚度、镀层重量的分析方法。

辉光放电光谱法测定合金化镀锌板镀层中铁含量

利用辉光放电光谱法测定合金化镀锌板镀层中铁含量,根据样品由表至里的辉光放电积分图谱,分别积分计算镀层中锌、铝、合金化铁的质量,从而得到镀层中真实的铁含量。同时,根据GB/T 1839的镀锌表面处理办法将合金化镀锌板镀层全部溶出,采用ICP-AES法测定镀层中铁的百分含量。结果发现,辉光放电光谱法与ICP-AES法对两块试样分别进行6次测定,相对标准偏差分别为1.6%、1.9%和1.6%、0.31%,辉光放电光谱法测定结果与ICP-AES法偏差分别为0.32%和0.48%。通过这种方法比对,还可以在采用辉光放电光谱法对非典型合金化镀锌板进行分析时优化积分参数,确保在线生产检验的连续性及准确性。

辉光放电光谱法定量分析金属材料表面纳米级薄膜的研究

介绍了利用辉光放电光谱法分析金属材料表面的纳米级薄膜。通过优化辉光光源的放电参数,计算标准样品的溅射率。溅射率经校正后,建立各元素的标准工作曲线,从而形成了纳米级薄膜的定量表面分析方法。试验证明,此方法对膜厚的测定具有很好的准确度和精密度,可应用于多种金属材料表面纳米级薄膜的研究。

辉光放电光谱法分析镀锌钢板

介绍了利用辉光放电光谱法分析不同种类的热镀锌板和电镀锌板的镀层定量分析;在锌铁合金化热镀锌板上界面定量计算方法的设计;锌铁合金化热镀锌板表面问题的发现。试验结果表明,辉光放电光谱法是配合镀锌板产品质量控制、研究开发的一种有效的分析手段。

辉光放电光谱分析技术在金属材料分析中的应用

本文主要介绍了辉光放电光谱仪的基本原理、分析特点以及在金属材料分析中的应用 ,并从理论上推导出辉光放电光谱分析技术用于金属材料分析的理论依据。着重介绍了基板分析、深度逐层分析。对磷青铜镀银层逐层分析 ;渗碳、氮钢板分析 ;

辉光放电光谱仪逐层分析Cr12钢表面渗硼层

采用两种不同的工艺在Cr12钢表面制备渗硼层,利用辉光放电光谱仪对两种工艺形成的Cr12表面渗硼层进行逐层分析。结果表明:1#试样(1000℃处理10h)渗硼层在距表面0～20μm内均由质量分数为8.8%的硼组成,随后硼的含量逐渐降低;2#试样(900℃处理10h)渗硼层的硼含量在表面较低,随后逐渐升高到质量分数为5%左右,接着又缓慢降低。由此推测1#试样的表面可能存在Fe2B;2#试样的表面可能由硼在铁中的α固溶体组成。为了验证辉光放电光谱仪逐层分析渗硼层的可靠性,利用XRD分析了渗硼层的相结构,结果表明:两者的测试结果相吻合。

辉光放电光谱法分析掺杂纳米硅薄膜的研究

介绍了利用辉光放电光谱法分析掺杂纳米硅薄膜,通过优化辉光光源激发参数、计算标准样品的溅射率,建立了掺杂纳米硅薄膜的定量表面分析方法。方法应用于实际掺杂纳米硅薄膜样品的分析,并将分析深度、剖析结果与表面形貌仪的结果进行了对照。试验结果表明,分析方法快速、准确,具有实际应用价值。

辉光放电光谱分析技术的应用进展

简单介绍了辉光放电光谱(GD-OES)的基本原理。对2000-2015年间辉光放电光谱在冶金行业、环境与有机物领域以及材料表面分析方面的应用进行了综述。钢铁材料与有色金属样品的成分分析为GD-OES的主要应用,有众多的研究报道;对于环境与有机物领域中的粉末与颗粒样品、液体样品以及气体与挥发性样品,GD-OES分别有相关分析应用尝试;同时,GD-OES作为一种重要的深度分析方法,在金属合金镀层、工艺处理层、纳米级薄层、有机涂层等材料表面分析方面都有具体的应用。对GD-OES的国内外标准进行了介绍。最后展望了辉光放电光谱的发展趋势。

国内辉光放电光谱仪的研制

本文介绍了辉光放电光谱仪(GD-OES)的结构与基本原理。分别对仪器各部件(如辉光放电光源、直流恒流供能源、光学系统、自动控制系统、数据采集处理系统)的研制进行了详细地阐述。采用研制的辉光放电光谱仪分别对样品进行了成分分析和深度分析,取得了很好的分析结果。所研制的辉光放电光谱仪在光学系统的PMT负高压、直流恒流供能源、光源不同部位的不同抽速等多方面都有相应的技术创新。

小型辉光放电光谱分析系统的研制及应用

辉光放电光谱分析仪器可直接分析固体样品,并可对样品表面进行沿深度方向的逐层分析,可用于材料表面成分分析、产品质量检验等研究领域。文中研究了一种小型辉光放电光谱系统,研制了辉光放电激发源,并采用射频电源驱动。采用AvaSpec-ULS2048型便携式CCD全光谱检测器,代替传统的多道分光检测系统,简化了仪器结构并减小了体积,更适合应用于小型的实验室和学校研究室等一些场合。通过实验确定了此系统分析铜基、铁基块状样品的最优工作参数,为射频功率50 W、氩气压强270 Pa。采用本系统对铜基、铁基块状样品进行了分析精密度实验,Cu基样品中的P、S、Al、Si元素测试结果的相对标准偏差值(RSD)均≤2.13%,Fe基样品中的Cu、C、Al、Si元素测试结果的相对标准偏差值(RSD)均≤2.08%。采用该系统对20.86μm镀锌层样品进行了深度剖面分析,给出了Zn、Fe、C、P、Al、Si元素的光谱强度分析曲线。

镀锡板镀层的辉光放电光谱法解析

利用辉光放电光谱法对镀锡板样品进行逐层剥离,根据样品由表至里的辉光放电积分图谱,分别设定公式积分计算镀锡板镀层厚度及质量、钝化层厚度及质量、基板成分、镀层中有害元素等。采用辉光放电光谱对镀锡板做深度-时间图,可知镀锡层的深度分辨率低于基板铁层。将方法应用于测定镀层质量、钝化层质量、基板成分(碳、硅、锰、磷、硫、镍、铬和铜)的测定,相对标准偏差分别不大于2.3%(n=10)、3.0%(n=10)、4.3%(n=5),分别将实验方法测定结果与X射线荧光光谱法(XRF)、光度法、电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICPAES)进行比对,结果基本一致。采用实验方法对镀锡板镀层中的有害元素进行了测定,可实现镀锡板多个检测项目的同时测定。

辉光放电光谱的应用新进展

本文对近年来辉光放电光谱(GD-OES)在铸铁、高合金、多基体样品的成分分析及纳米级薄膜材料、复杂涂镀层的深度分析上新的应用进展进行了阐述。同时,分别介绍了辉光放电光谱应用标准方面的动态和针对工艺过程应用推出的特定新仪器。

辉光放电光谱法在深度分析上的应用现状

本文简单地介绍了辉光放电光谱法(GD-OES)的基本原理。分别对深度分析的定量方式、放电方式、应用领域和相关标准进行了详细地阐述。重点描述了商品化仪器中使用的SIMR深度分析定量方法。分别对三种放电方式(如直流、射频和脉冲)在深度分析中的特点进行了介绍。综述了GD-OES在金属镀层、复杂涂镀层、纳米级薄膜和样品制备领域的具体应用。最后,介绍了GD-OES在深度分析方面的标准。

直流辉光放电光谱法测定硅钢中8种元素

硅钢是一种电工用钢，硅钢的化学成分的要求也愈来愈高。辉光放电光谱法在分析领域的应用正得到快速的发展。本文利用直流辉光光谱测定硅钢中8种元素的化学成分，取得良好效果。

便携液体阴极辉光放电光谱仪与火焰原子吸收光谱法测定水中锂的比较

分别将自制便携液体阴极辉光放电光谱仪及火焰原子吸收光谱仪应用于水中锂的测定。优化条件下,对两种方法工作曲线的线性、检出限、重复性等分析性能参数以及实际水样锂含量测定结果进行了比对测试。结果表明:便携液体阴极辉光放电光谱仪对水中锂测定检出限可达到10μg/L,以50μg/L标液7次连续测定相对标准偏差考察本方法的精密度,结果小于5%。便携液体阴极辉光放电光谱仪在易于实现野外测量的便携优势以外,较之火焰原子吸收光谱法具有更为优异的检出性能。

辉光放电光谱仪新进展

本文对辉光放电光谱仪(GDOES)的光源激发方式、仪器的检测器、各种实用附件以及在深度分析上应用的新进展分别进行阐述。

辉光放电光谱仪及其在表面分析中的应用

详细介绍了GDS辉光放电光谱仪的发展概况、基本工作原理、设备的基本配置与构成以及性能特点等。用实例介绍了在金属材料的镀层表面逐层分析中的应用。最后展望了GDS在表面处理行业的应用前景。

一种用于辉光放电光谱深度分析的激光实时测量新方法

辉光放电原子发射光谱仪可用于物质表面化学成分随深度分布的分析,在镀层分析、金属材料检验等领域有着广泛的应用。文章介绍了辉光深度分析的传统方法和局限性以及实时深度测量技术的近期研究,提出了一种用于辉光放电光谱深度分析的激光实时测量新方法。文章采用激光位移传感器和根据激光测量方法设计的辉光放电光源构成实时深度测量系统,详细阐述了系统的设计方案和技术原理。系统的设计结构能够实现在辉光光谱分析的同时进行激光实时溅射深度的测量。通过实验验证和分析了激光实时测量样品溅射深度过程中产生的光源位移现象。采用双激光器实时深度测量系统对锌合金标准样品进行了溅射深度的实时测量,给出了实时深度测量曲线。通过将溅射面测量曲线与参考面曲线进行叠加,得到了样品溅射坑深度的实际值,与Dektak8型表面形貌仪测量结果一致。

辉光放电光谱法测定因瓦合金中14种元素

采用11种与因瓦合金成分含量相接近的镍基合金标准样品绘制校准曲线,建立了基本不需要样品处理即可对因瓦合金中14种元素(C、Si、Mn、P、S、Ni、Cr、Mo、Cu、Al、Nb、Ti、Co、Fe)同时测定的辉光放电光谱法。确定辉光光谱仪检测因瓦合金的最佳条件:模块电压和相电压分别为8.22V和3.82V;功率为70 W;冲洗时间为80s;积分时间为60s。以各元素质量分数为横坐标,其对应的光谱强度为纵坐标绘制校准曲线,各元素校准曲线的相关系数均在0.99以上。采用实验方法对因瓦合金实际样品进行分析,结果显示:Cr、Ni、Mo、Ti、Fe的质量分数均大于0.3%,各元素测定值的相对标准偏差(RSD,n=11)均不大于1%;C、Si、Mn、P、S、Cu、Al、Nb、Co的质量分数均小于0.3%,各元素测定值的RSD(n=11)均小于5%。将实验方法应用于对因瓦合金样品中14种元素的测定,测得结果与滴定法测定Ni和Fe、高频燃烧红外吸收法测定C和S、电感耦合等离子体原子发射光谱法测定Si、Mn、P、Cr、Mo、Cu、Al、Nb、Ti和Co元素的结果基本一致。