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掺氮二氧化钛薄膜的介质阻挡放电化学气相沉积及其结构性能研究 被引量:5
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作者 李喆 张溪文 韩高荣 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期318-324,共7页
采用介质阻挡放电化学气相沉积(DBD-CVD)法,以四异丙醇钛(TTIP)作为钛源,氨气(NH3)和笑气(N2O)分别作为氮源的气相反应先驱体,成功制备了不同掺杂量的掺氮二氧化钛(TiO2)薄膜。SEM、XRD、XPS和UV-Vis透射光谱研究表明:所制得的掺氮二氧... 采用介质阻挡放电化学气相沉积(DBD-CVD)法,以四异丙醇钛(TTIP)作为钛源,氨气(NH3)和笑气(N2O)分别作为氮源的气相反应先驱体,成功制备了不同掺杂量的掺氮二氧化钛(TiO2)薄膜。SEM、XRD、XPS和UV-Vis透射光谱研究表明:所制得的掺氮二氧化钛薄膜均为锐钛矿相,氮源的引入对TiO2薄膜晶粒成长、晶体取向、表面形貌影响很大,并促使光吸收限红移,提高了薄膜在可见光照射下的光催化效率,并改善了薄膜表面的亲水性能。且NH3掺氮效果整体好于N2O。 展开更多
关键词 介质阻挡放电化学气相沉积 掺氮TiO2薄膜 光催化性 亲水性
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电离放电化学的研究趋势
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作者 依成武 白希尧 +1 位作者 胡又平 周建刚 《化工时刊》 CAS 2003年第6期1-4,共4页
概述了电离放电化学研究现状与发展趋势,认为今后的发展方向是应用特种新工艺实施高气压强电离放电方法,激励气体分子分解、电离成离子、原子、激发态原子(及分子)和自由基等,按预定模型合成新物质、新分子,使常规难以进行的化学反应得... 概述了电离放电化学研究现状与发展趋势,认为今后的发展方向是应用特种新工艺实施高气压强电离放电方法,激励气体分子分解、电离成离子、原子、激发态原子(及分子)和自由基等,按预定模型合成新物质、新分子,使常规难以进行的化学反应得以进行或加速进行。并举例说明了强电离放电化学在化学工业、环境工程和材料工业等方面将具有极其广阔的应用前景。 展开更多
关键词 电离放电化学 研究趋势 强电离 非平衡等离子体 化学定向反应
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Ti-V基多相贮氢电极合金的电化学吸放氢机理研究 被引量:2
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作者 陈妮 李锐 +2 位作者 朱云峰 刘永锋 潘洪革 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第11期1200-1204,共5页
采用XRD的Rietveld全谱拟合技术以及利用储氢合金吸氢量与其体积膨胀成线形关系的原理,研究了Ti-V基贮氢电极合金的电化学吸放氢机理.结果表明,铸态合金Ti0.8Zr0.2V1.867Mn0.373Cr0.56Ni0.7由C14型Laves相和V基固溶体相构成.在充电过程... 采用XRD的Rietveld全谱拟合技术以及利用储氢合金吸氢量与其体积膨胀成线形关系的原理,研究了Ti-V基贮氢电极合金的电化学吸放氢机理.结果表明,铸态合金Ti0.8Zr0.2V1.867Mn0.373Cr0.56Ni0.7由C14型Laves相和V基固溶体相构成.在充电过程中,充电时间由3.33增至120 min时,Laves相的晶胞体积膨胀率ΔV/V分别由0.301%增加到2.719%,而V基同溶体相的ΔV/V由0.011%增至1.685%.在放电过程中,放电时间从0 min增加到165 min时,Layes相的ΔV/V从14.542%降到8.119%;而V基固溶体相的△V/V从8.117%减小到6.248%.说明电化学吸氢时,氢首先被Laves相吸收,然后再扩散进入V基固溶体;电化学放氢时, V基固溶体中的氢首先扩散进入Laves相然后再释放.因此,该合金中,Laves相既是吸氢相又是催化相,提高合金中V基固溶体相的利用率,从而使Ti-V基贮氢合金具有较好的综合电化学性能. 展开更多
关键词 电化学 Ti—Ⅴ基贮氢合金 C14型Laves相 Ⅴ基固溶体 电化学性能
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高速旋转电化学放电钻削材料去除机理试验研究
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作者 史先春 黄绍服 +1 位作者 李君 王龙 《机械科学与技术》 CSCD 北大核心 2020年第7期1053-1059,共7页
为了研究电化学放电钻削工艺中的材料去除机理,采用高速旋转的碳化钨螺旋工具电极对ANSI 304型不锈钢工件进行了一系列试验研究,并使用高速摄像机观察加工过程中气泡的产生、气膜的形成和电火花放电现象。通过分析加工电流的信号波形和... 为了研究电化学放电钻削工艺中的材料去除机理,采用高速旋转的碳化钨螺旋工具电极对ANSI 304型不锈钢工件进行了一系列试验研究,并使用高速摄像机观察加工过程中气泡的产生、气膜的形成和电火花放电现象。通过分析加工电流的信号波形和不同转速下的电火花放电现象,从而进一步揭示了电化学放电加工中的材料去除机理。结果表明:当工具电极较高速旋转时,工件材料是通过EDM和ECM的协同作用被蚀除;当工具电极转速极低或静止时,工件材料是通过ECM被蚀除。 展开更多
关键词 电化学电钻削 气泡 气膜 加工电流 电火花电现象 材料去除机理
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DBD-CVD法制备掺氮二氧化钛薄膜及其结构性能 被引量:1
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作者 高倩 李喆 +3 位作者 李铭 刘涌 宋晨路 韩高荣 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2012年第1期93-97,共5页
采用介质阻挡放电化学气相沉积(DBD-CVD)法制备TiO2透明自清洁功能薄膜,选用四异丙醇钛(TTIP)、NH3作为反应先驱体,另外再加入一定量的N2、Ar或者He作为稀释气体控制气体的流量和流速。通过对其进行X射线衍射、紫外-可见光谱、X光电子... 采用介质阻挡放电化学气相沉积(DBD-CVD)法制备TiO2透明自清洁功能薄膜,选用四异丙醇钛(TTIP)、NH3作为反应先驱体,另外再加入一定量的N2、Ar或者He作为稀释气体控制气体的流量和流速。通过对其进行X射线衍射、紫外-可见光谱、X光电子能谱、场发射扫描电镜、光催化性质、光亲水性质等测试表明,过DBD-CVD方法制备TiO2薄膜,只存在锐钛矿相,氮掺杂改变了薄膜中锐钛矿相晶粒生长的取向,从而影响薄膜的表面微观结构,促使光吸收限红移,提高了薄膜在可见光照射下的光催化效率,并改善了薄膜表面的亲水性能。 展开更多
关键词 TIO2薄膜 介质阻挡放电化学气相沉积(DBD-CVD) 表面微观结构 掺N 光催化性 亲水性
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HCN、H_2S、PH_3、N_2-NH_3与CH_4-H_2O气体混合物的前生物分子合成
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作者 戚生初 王文清 +1 位作者 汪永刚 吴季兰 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1991年第1期114-116,共3页
原始大气反应生成的HCN部分按Strecker反应合成氨基酸,其余随降雨进入水体。由于气液平衡,HCN可重返大气层参与由放电与太阳辐射引发的化学过程。气相中分子扩散迅速、无笼效应,故生物分子的合成较液相中更有效。本文验证了这一过程,并... 原始大气反应生成的HCN部分按Strecker反应合成氨基酸,其余随降雨进入水体。由于气液平衡,HCN可重返大气层参与由放电与太阳辐射引发的化学过程。气相中分子扩散迅速、无笼效应,故生物分子的合成较液相中更有效。本文验证了这一过程,并研究了CH_4、H_2S、HCN等在合成生命分子中的作用。 1 展开更多
关键词 放电化学 气体混合物 前生物合成
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