闪光照相中散射照射量的解析分析

考虑了光子与物质的三种相互作用方式，用解析分析法确定光子在材料中能量的一次散射转化几率，并由此求得闪光照相系统中成像平面上的散射和最小直散比的表达式。用该公式求得的FTO客体的最小直散比约为1．0，与美国NIH实验结果0．5～1.5近似符合。

闪光照相中光子散射照射量的解析分析

考虑了光子与物质的三种相互作用，用解析分析法确定光子在材料中能量的一次散射转换几率，并由此求得闪光照相系统中成像平面上的散射表达式。

高能闪光照相中钨球散射规律研究

用解析法和Monte Carlo法研究了钨球闪光X光照相的散射照射量空间分布随钨球半径、系统中元件构成以及保护器件与记录平面间距的变化规律。指出散射照射量的空间分布是不均匀的,它随球半径增加而变大;保护器件是散射照射量的主要来源,增加从保护器件到记录平面的距离,可以降低散射分布不均匀性,以及有效地减少散射。

高能X射线照相中降散射网栅失聚焦对图像的影响

通过理论分析,给出了网栅或光源横向偏离束轴、网栅或光源相对束轴有小角度倾斜、光源不在网栅聚焦点上等失聚焦照相条件下的直穿辐射损失率,计算了利用膜片堆叠制造网栅造成的影响。并通过蒙特卡罗数值模拟验证了理论分析结果。结果表明,网栅失聚焦或膜片堆叠制造的影响相当于网栅孔的尺寸减小,孔内其他位置的直穿辐射量保持不变。

平板模型的散射规律

为了进一步研究高能X光散射的特性，以平板为模型，通过分析方法和MC数值模拟研究了X光散射的规律。平板厚度相应的X光光程为1．0～2．0，散射照射量最大。

高Z材料中X光散射规律的数值研究

用数值模拟研究以钨圆柱体或钨球作为客体的闪光照相系统中记录平面上散射成分随柱半径R、柱体高度H或球半径R变化的规律。结果表明：当柱体R固定时，散射照射量先随H增加而先增加后减小，最大散射发生在H=3cm处；当H固定时，散射照射量随柱体R增加而增加。在球形几何无后锥时，散射照射量先随球外半径R增加而先增加后减小，最大散射发生在R=1．75cm处；后锥是散射的主要来源。直散比既随H增加而单调减小，也随柱体R增加而单调减小；对于球形几何，直散比随球的外半径R增加而单调减小。