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平行板反应离子刻蚀系统均匀磁场的数值计算
1
作者
陈家荣
王玉琦
《真空》
CAS
北大核心
2010年第2期34-36,共3页
在平行板反应离子刻蚀系统的圆筒形腔体的侧壁上绕上电流线圈后,系统中的磁场强度和均匀性都可进行调节。本文根据螺线管线圈内部磁场的分布规律,通过数值计算的方法在该系统中获得均匀的磁场。
关键词
反应离子刻蚀
磁场
数值解及分析
下载PDF
职称材料
题名
平行板反应离子刻蚀系统均匀磁场的数值计算
1
作者
陈家荣
王玉琦
机构
贵州民族学院物理与电子信息科学学院
中国科学院合肥物质研究院固体物理所
出处
《真空》
CAS
北大核心
2010年第2期34-36,共3页
基金
贵州民族学院2009年度科研基金资助项目
文摘
在平行板反应离子刻蚀系统的圆筒形腔体的侧壁上绕上电流线圈后,系统中的磁场强度和均匀性都可进行调节。本文根据螺线管线圈内部磁场的分布规律,通过数值计算的方法在该系统中获得均匀的磁场。
关键词
反应离子刻蚀
磁场
数值解及分析
Keywords
reaction ion etching(RIE), magnetic field
numerical computation
分类号
O47 [理学—半导体物理]
O484 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
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1
平行板反应离子刻蚀系统均匀磁场的数值计算
陈家荣
王玉琦
《真空》
CAS
北大核心
2010
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