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化学镀铜对厚膜敷铜陶瓷基板敷铜层的影响
被引量:
5
1
作者
张鹏飞
傅仁利
+2 位作者
钱斐
方军
蒋维娜
《电子元件与材料》
CAS
CSCD
北大核心
2014年第2期39-42,共4页
通过化学镀铜对厚膜敷铜陶瓷基板敷铜层进行致密化处理,采用SEM、XRD、导电性测试和结合力测试研究了化学镀铜对敷铜层结构和性能的影响。结果表明:基板敷铜层经化学镀铜处理后,孔洞深度明显变浅、平均孔径由10μm下降为3μm;表面铜层...
通过化学镀铜对厚膜敷铜陶瓷基板敷铜层进行致密化处理,采用SEM、XRD、导电性测试和结合力测试研究了化学镀铜对敷铜层结构和性能的影响。结果表明:基板敷铜层经化学镀铜处理后,孔洞深度明显变浅、平均孔径由10μm下降为3μm;表面铜层和中间层结合得更加紧密,敷接强度增加了143.6 N/cm2。同时,基板敷铜层的表面方阻由4.30 mΩ/□下降至3.02 mΩ/□,敷铜层的导电性能增强。
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关键词
敷铜陶瓷基板
敷
铜
层
化学镀
铜
致密化
敷
接强度
导电性
原文传递
题名
化学镀铜对厚膜敷铜陶瓷基板敷铜层的影响
被引量:
5
1
作者
张鹏飞
傅仁利
钱斐
方军
蒋维娜
机构
南京航空航天大学材料科学与技术学院
出处
《电子元件与材料》
CAS
CSCD
北大核心
2014年第2期39-42,共4页
基金
广东省战略新兴产业核心技术攻关项目资助(No.2011A091103002)
文摘
通过化学镀铜对厚膜敷铜陶瓷基板敷铜层进行致密化处理,采用SEM、XRD、导电性测试和结合力测试研究了化学镀铜对敷铜层结构和性能的影响。结果表明:基板敷铜层经化学镀铜处理后,孔洞深度明显变浅、平均孔径由10μm下降为3μm;表面铜层和中间层结合得更加紧密,敷接强度增加了143.6 N/cm2。同时,基板敷铜层的表面方阻由4.30 mΩ/□下降至3.02 mΩ/□,敷铜层的导电性能增强。
关键词
敷铜陶瓷基板
敷
铜
层
化学镀
铜
致密化
敷
接强度
导电性
Keywords
ceramic substrate coated copper
copper film
electroless copper plating
densification
adhesion strength
electrical conductivity
分类号
TQ153.14 [化学工程—电化学工业]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
化学镀铜对厚膜敷铜陶瓷基板敷铜层的影响
张鹏飞
傅仁利
钱斐
方军
蒋维娜
《电子元件与材料》
CAS
CSCD
北大核心
2014
5
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