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光学介质膜材料
1
作者
E.Ritter
(厂龙)叔鸣
《电子器件》
CAS
1981年第3期141-194,共54页
薄膜对解决光学问题是非常自然和合适的,象降低和提高反射率、滤光等等。因此,对近代光学日益重要。理论和工艺的最新发展能够制备更复杂和更有效的膜系。 计算机的使用复杂膜系的计算容易。在各种制造方法中关于镀膜机的容量和效率,过...
薄膜对解决光学问题是非常自然和合适的,象降低和提高反射率、滤光等等。因此,对近代光学日益重要。理论和工艺的最新发展能够制备更复杂和更有效的膜系。 计算机的使用复杂膜系的计算容易。在各种制造方法中关于镀膜机的容量和效率,过程的稳定性以及膜厚和均匀性的控制。真空蒸发特别显示出显著的进展,这些工艺的进展是由于真空方面以及一般薄膜工艺和特别在光学方面的努力结果。 薄膜材料对可(?)的薄膜器件的工艺生产是非常重要的。材料的品种受到很大的限制,但是我们对每种材料的认识逐渐深化以及膜的制备方法已有不断改进。 本文将对光学干扰应用方面的膜料作一概要的论述 。
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关键词
光学
斫射
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职称材料
题名
光学介质膜材料
1
作者
E.Ritter
(厂龙)叔鸣
出处
《电子器件》
CAS
1981年第3期141-194,共54页
文摘
薄膜对解决光学问题是非常自然和合适的,象降低和提高反射率、滤光等等。因此,对近代光学日益重要。理论和工艺的最新发展能够制备更复杂和更有效的膜系。 计算机的使用复杂膜系的计算容易。在各种制造方法中关于镀膜机的容量和效率,过程的稳定性以及膜厚和均匀性的控制。真空蒸发特别显示出显著的进展,这些工艺的进展是由于真空方面以及一般薄膜工艺和特别在光学方面的努力结果。 薄膜材料对可(?)的薄膜器件的工艺生产是非常重要的。材料的品种受到很大的限制,但是我们对每种材料的认识逐渐深化以及膜的制备方法已有不断改进。 本文将对光学干扰应用方面的膜料作一概要的论述 。
关键词
光学
斫射
分类号
G6 [文化科学—教育学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
光学介质膜材料
E.Ritter
(厂龙)叔鸣
《电子器件》
CAS
1981
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