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基于点模式匹配的芯片缺陷检测算法研究 被引量:9
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作者 刘琛 袁小芳 +1 位作者 田争鸣 王浩然 《激光杂志》 北大核心 2020年第1期39-44,共6页
针对高速与高精度场景下芯片缺陷检测实时性和准确性难以同时保证的问题,提出一种基于方位环境特征的点模式匹配定位算法(Azimuth Environment Feature Vector-Based Point Pattern Matching Localization Algorithm,AEF-PPMLA),提升检... 针对高速与高精度场景下芯片缺陷检测实时性和准确性难以同时保证的问题,提出一种基于方位环境特征的点模式匹配定位算法(Azimuth Environment Feature Vector-Based Point Pattern Matching Localization Algorithm,AEF-PPMLA),提升检测的实时性、准确性和易用性。该算法含两个部分:方位环境特征向量计算方法(Azimuthal Environment Feature Vector Calculator Method,AEF-VCM)和相似度计算方法 (Matching Degree Calculator Method,MDCM)。AEF-VCM对芯片的方位环境特征进行向量描述,减少点匹配的计算量,提高检测的实时性;MDCM采用卡方检验算法来度量特征向量的相似度,提高检测的准确度。实验部分验证算法的定位精度、耗时以及缺陷识别的准确率,结果表明所提出的AEF-PPMLA能够快速准确定位芯片并识别引脚缺陷,满足高质量生产需要。 展开更多
关键词 机器视觉 缺陷检测 芯片定位 点模式匹配 方位环境特征
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