含不同取代吲哚修饰的方酸菁衍生物的合成及光学性能的研究

通过缩合反应合成了四个含不同取代吲哚修饰的方酸菁衍生物(SQ、DISQ、MeSQ、DIMeSQ).方酸菁衍生物是一种D-A-D构型的染料,由方酸与两个富电子基团通过共轭连接而成.化合物结构通过1H NMR,13C NMR和高分辨质谱进行表征.同时,对于它们的紫外-可见吸收、荧光发射、荧光量子产率、荧光寿命及单线态氧量子产率等光物理性质也做了研究.结果显示,在二氯甲烷溶液中,SQ、DISQ、MeSQ和DIMeSQ的吸收波长在600~700 nm,发射波在620~800 nm,均在近红外区域.在应用方面,4个方酸菁衍生物敏化单线态氧性能被研究,其中DISQ获得最高的单线态氧量子产率(6%),是DIMeSQ的2倍(3%),可能因为N-氢取代分子相比N-甲基取代分子,更有利于分子的系间窜跃.结合单晶结构和理论计算证明分子内N—H…O作用力有利于分子的系间窜跃,表明分子DISQ可以作为光动力治疗的潜在药物.

基于取代苯胺的不对称方酸菁的合成以及光学性质研究

不对称方酸菁染料在新能源材料和生物标记方面有广泛的应用。合成了3类不同的方酸菁衍生物,化合物结构通过~1H NMR,^(13)C NMR和MS进行了表征。同时对于它们的近红外吸收以及荧光强度等物理性质也做了研究。结果显示,这3种不同的方酸菁衍生物具有良好的吸收以及荧光特性。循环伏安法的测定,进一步解释了3种化合物近红外吸收和荧光发射波长的差异。这3种化合物可作为合适的候选化合物,用于生物成像的应用。