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非掺杂半绝缘LECGaAs中深施主缺陷对注入硅激活率的影响
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作者 杨瑞霞 贾晓华 +1 位作者 付浚 李光平 《河北工业大学学报》 CAS 1999年第1期52-54,共3页
通过测量GaAs金属半导体场效应晶体管(MESFET)的饱和漏-源电流分布研究了深施主缺陷EL2对半绝缘(SI)LECGaAs中注入硅(Si)激活率的影响,发现激活率随EL2浓度的增加而增加,讨论了EL2影响硅注入激... 通过测量GaAs金属半导体场效应晶体管(MESFET)的饱和漏-源电流分布研究了深施主缺陷EL2对半绝缘(SI)LECGaAs中注入硅(Si)激活率的影响,发现激活率随EL2浓度的增加而增加,讨论了EL2影响硅注入激活率的机理. 展开更多
关键词 砷化镓 离子注入 施主缺陷 场效应晶体管
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高温淬火对GaAs中深施主缺陷的影响
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作者 杨瑞霞 刘力锋 郭惠 《河北工业大学学报》 CAS 2001年第1期67-69,共3页
研究了1 120℃ 高温淬火对非掺杂半绝缘LECGaAS中 EL2浓度的影响.发现真空条件T,在1120℃热处理2h~8h并快速冷却后,样品中EL2浓度下降近一个数量级,提高高温过程中的 AS压,可抑制 EL2浓度的大幅... 研究了1 120℃ 高温淬火对非掺杂半绝缘LECGaAS中 EL2浓度的影响.发现真空条件T,在1120℃热处理2h~8h并快速冷却后,样品中EL2浓度下降近一个数量级,提高高温过程中的 AS压,可抑制 EL2浓度的大幅下降. 展开更多
关键词 非掺杂半绝缘LECGaAs 高温粹火 EL2浓度 AS压 砷化镓 施主缺陷 集成电路 砷压
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ZnGeP_2晶体点缺陷的研究进展 被引量:2
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作者 朱崇强 杨春晖 +3 位作者 王猛 夏士兴 马天慧 吕维强 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期1089-1095,共7页
ZnGeP_2晶体是具有重要应用背景的红外非线性光学材料.晶体中的点缺陷严重限制了ZnGeP_2晶体的应用发展.本工作介绍了ZnGeP_2晶体点缺陷的最新研究进展情况.首先,利用电子顺磁共振技术研究了ZnGeP_2晶体的点缺陷.主要存在缺陷是受主缺陷... ZnGeP_2晶体是具有重要应用背景的红外非线性光学材料.晶体中的点缺陷严重限制了ZnGeP_2晶体的应用发展.本工作介绍了ZnGeP_2晶体点缺陷的最新研究进展情况.首先,利用电子顺磁共振技术研究了ZnGeP_2晶体的点缺陷.主要存在缺陷是受主缺陷V_(Zn)^-及施主缺陷V_P^0和Ge_(Zn)^+,其相应的缺陷能级分别为E(V_(Zn)^-)=Ec-(1.02±0.03)eV,E(V_P^0)=Ev+(1.61±0.06)eV和E(Ge_(Zn)^+)=Ev+(1.70±0.03)eV.对晶体作了电子照射及高温退火等处理后,又分别发现了两种缺陷V_(Ge)^(3-)和V_P^0其次,利用全势能线性muffin-tin轨道组合法模拟研究了ZnGeP_2晶体的点缺陷.主要存在缺陷及缺陷能级的计算结果与实验结果基本一致,但由于理论模拟与实际情况还存在差距,有些计算结果与实验结果相矛盾.因此,将实验与理论有机结合研究晶体的点缺陷是今后研究的重点. 展开更多
关键词 ZnGeP2晶体 电子顺磁共振 受主缺陷 施主缺陷 密度泛函理论
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ZnGeP_2晶体近红外吸收特性的研究 被引量:3
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作者 夏士兴 杨春晖 +4 位作者 朱崇强 马天慧 王猛 雷作涛 徐斌 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第10期1029-1033,共5页
采用布里奇曼法生长了磷化锗锌晶体,晶体毛坯尺寸达φ20mm×90mm,选取晶体尾部、晶体中部、籽晶端三个部位厚度为4.0mm的抛光晶片作为测试样品.从实验和理论上研究与分析了晶体的近红外吸收特性.实验结果显示:晶体透过率由尾部至近... 采用布里奇曼法生长了磷化锗锌晶体,晶体毛坯尺寸达φ20mm×90mm,选取晶体尾部、晶体中部、籽晶端三个部位厚度为4.0mm的抛光晶片作为测试样品.从实验和理论上研究与分析了晶体的近红外吸收特性.实验结果显示:晶体透过率由尾部至近籽晶端逐渐增大,表明晶体近红外吸收由尾部至近籽晶端逐渐减小,这是由于晶体内缺陷密度发生了改变,且晶体内本征点缺陷分布比例不均衡,进而导致晶体的近红外吸收产生差异.理论上计算了磷化锗锌晶体施主缺陷GeZn+和受主缺陷V-Zn的吸收光谱.计算结果表明:受主缺陷V-Zn对磷化锗锌晶体吸收光谱产生的影响大于施主缺陷GeZn+. 展开更多
关键词 磷化锗锌 近红外吸收 缺陷密度 施主缺陷 受主缺陷
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P型氮掺杂ZnO薄膜的光学特性研究
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作者 郭松林 徐小勇 施卫国 《真空》 CAS 2012年第6期59-62,共4页
以N2为P型掺杂源,利用射频磁控溅射技术,通过改变O2:N2比制备了不同N掺杂量的P型ZnO薄膜,详细研究分析了N掺杂ZnO薄膜的PL谱及电学性能。结果表明,随着O2:N2的变化,不仅薄膜的峰位发生了变化,其强度也进行相应的变化。当O2:N2为10:10时... 以N2为P型掺杂源,利用射频磁控溅射技术,通过改变O2:N2比制备了不同N掺杂量的P型ZnO薄膜,详细研究分析了N掺杂ZnO薄膜的PL谱及电学性能。结果表明,随着O2:N2的变化,不仅薄膜的峰位发生了变化,其强度也进行相应的变化。当O2:N2为10:10时,薄膜具有三个发光峰,且UV峰发光强度最大,此时薄膜呈现出明显的P型特征。 展开更多
关键词 磁控溅射 P型ZNO 红移 施主缺陷 受主掺杂
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硫钝化对GaAs MESFET饱和源漏电流影响的实验研究
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作者 李晓光 王同祥 +1 位作者 李效白 杨瑞霞 《河北工业大学学报》 CAS 2004年第3期42-44,共3页
硫钝化对GaAsFET的电特性有重要影响[1].本文分析了硫钝化后GaAsMESFET饱和源漏电流(IDss)下降的原因,认为硫处理降低了和/(为施主缺陷密度;为受主缺陷密度),表面费米能级向价带顶移动,能带弯曲加剧,表面耗尽层变厚,导电沟道变窄,是导... 硫钝化对GaAsFET的电特性有重要影响[1].本文分析了硫钝化后GaAsMESFET饱和源漏电流(IDss)下降的原因,认为硫处理降低了和/(为施主缺陷密度;为受主缺陷密度),表面费米能级向价带顶移动,能带弯曲加剧,表面耗尽层变厚,导电沟道变窄,是导致饱和源漏电流下降的主要因素.对样品进行225℃退火可使饱和源漏电流恢复到钝化前的水平. 展开更多
关键词 硫钝化 场效应晶体管 饱和源漏电流 施主缺陷 受主缺陷
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Investigation of Residual Donor Defects in Undopedan d Fe-Doped LEC InP
7
作者 赵有文 孙聂枫 +3 位作者 冯汉源 C.D.Beling 孙同年 林兰英 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第5期455-458,共4页
The free electron concentration of as-grown liquid encapsulated Czochralski (LE C) InP measured by Hall effect is much higher than the concentration of net dono r impurity determined by glow discharge mass spectroscop... The free electron concentration of as-grown liquid encapsulated Czochralski (LE C) InP measured by Hall effect is much higher than the concentration of net dono r impurity determined by glow discharge mass spectroscopy.Evidence of the existe nce of a native donor hydrogen-indium vacancy complex in LEC undoped and Fe-do ped InP materials can be obseved with infrared absorption spectra.The concentra tion increase of the donor complex correlates with the increase of ionized deep acceptor iron impurity Fe concentration in Fe-doped semi-insulating (S I) InP.These results indicate that the hydrogen-indium vacancy complex is an im portant donor defect in as-grown LEC InP,and that it has significant influence on the compensation in Fe-doped SI InP 展开更多
关键词 indium phosphide SEMI-INSULATING donor defect
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Implantation induced defects and electrical properties of Sb-implanted ZnO 被引量:1
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作者 XIE Hui LIU Tong +4 位作者 LIU JingMing CAO Ke Wei DONG ZhiYuan YANG Jun ZHAO YouWen 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第8期1333-1338,共6页
Defects in Sb implanted Zn O single crystals have been studied by using photoluminescence(PL) spectroscopy,X-ray diffraction(XRD) and Raman scattering.Electrical properties of the samples were analyzed by Hall effect ... Defects in Sb implanted Zn O single crystals have been studied by using photoluminescence(PL) spectroscopy,X-ray diffraction(XRD) and Raman scattering.Electrical properties of the samples were analyzed by Hall effect measurement.The results indicate that the annealed Sb-implanted sample is n-type with a free electron concentration of the same amplitude as the calculated implantation concentration.The well-known oxygen vacancy related deep level green PL band is suppressed in the as-implanted sample and recovers to the level close to the as-grown Zn O single crystal after annealing.These phenomena suggest that a large portion of as-implanted Sb atoms occupy oxygen lattice site in an unstable state and move to the interstitial site,forming the complex donor defect upon high temperature annealing,resulting in n-type conduction even if the implantation dose is quite high. 展开更多
关键词 ZNO PHOTOLUMINESCENCE Ramam scattering Hall measurement ion implantation DEFECT
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