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多模式旋转磁场对电弧离子镀弧斑放电的影响分析
被引量:
5
1
作者
郎文昌
高斌
+3 位作者
杜昊
肖金泉
谢婷婷
王向红
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015年第6期662-670,共9页
电弧离子镀工艺中,弧斑的放电形式、运动速率、运动方式的控制对于减少以至消除大颗粒的发射至关重要。本文采用自主研发的机械式旋转磁控弧源,围绕三种不同模式的旋转磁场下弧斑的放电行为及规律进行了研究,并从弧斑放电的物理机制出发...
电弧离子镀工艺中,弧斑的放电形式、运动速率、运动方式的控制对于减少以至消除大颗粒的发射至关重要。本文采用自主研发的机械式旋转磁控弧源,围绕三种不同模式的旋转磁场下弧斑的放电行为及规律进行了研究,并从弧斑放电的物理机制出发,分析讨论了不同模式的旋转磁场对阴极斑点运动的影响机理。研究结果表明,多模式旋转磁场可以有效提高弧斑的运动速度、扩大放电面积、降低放电功率密度、减少大颗粒的发射,同时还能够大幅度提高靶材的利用率,拓展电弧离子镀的应用。
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关键词
机械式
旋转
磁控弧源
旋转不对称偏心轴向磁场
旋转
偏心
横向
磁场
旋转
偏心
四极对顶
磁场
旋转
偏心
拱形
磁场
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职称材料
题名
多模式旋转磁场对电弧离子镀弧斑放电的影响分析
被引量:
5
1
作者
郎文昌
高斌
杜昊
肖金泉
谢婷婷
王向红
机构
温州职业技术学院材料成型工艺与模具技术重点实验室
中国科学院金属研究所材料表面工程研究部
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015年第6期662-670,共9页
基金
浙江省自然科学基金项目(LQ12E01003)
浙江省科技厅公益计划项目(2012C21099)
文摘
电弧离子镀工艺中,弧斑的放电形式、运动速率、运动方式的控制对于减少以至消除大颗粒的发射至关重要。本文采用自主研发的机械式旋转磁控弧源,围绕三种不同模式的旋转磁场下弧斑的放电行为及规律进行了研究,并从弧斑放电的物理机制出发,分析讨论了不同模式的旋转磁场对阴极斑点运动的影响机理。研究结果表明,多模式旋转磁场可以有效提高弧斑的运动速度、扩大放电面积、降低放电功率密度、减少大颗粒的发射,同时还能够大幅度提高靶材的利用率,拓展电弧离子镀的应用。
关键词
机械式
旋转
磁控弧源
旋转不对称偏心轴向磁场
旋转
偏心
横向
磁场
旋转
偏心
四极对顶
磁场
旋转
偏心
拱形
磁场
Keywords
Mechanical rotating magnetic field assisted arc source, Rotating asymmetric and offset axial magnetic field, Rotating offset transverse magnetic field, Rotating offset quadrupole (four poles) antipodal mag-netic field, Rotating offset arched magnetic field
分类号
TB43 [一般工业技术]
TG174.4 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
多模式旋转磁场对电弧离子镀弧斑放电的影响分析
郎文昌
高斌
杜昊
肖金泉
谢婷婷
王向红
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015
5
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职称材料
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