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层状结构金属化合物薄膜的制备及表征
1
作者
袁坚
陶武刚
+1 位作者
陈铭夏
上官文峰
《机械工程材料》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第6期43-45,共3页
采用分析纯TiO2、Nb2O5和K2CO3粉末为原料,采用高温固相反应制备出具有层状结构的K4Nb6O17和K2Ti4O9粉末,经过湿磨和离心沉淀分离,用旋转涂敷法在石英玻璃基片表面制备K4Nb6O17和K2Ti4O9薄膜。对所制备K4Nb6O17薄膜进行H+离子交换和正...
采用分析纯TiO2、Nb2O5和K2CO3粉末为原料,采用高温固相反应制备出具有层状结构的K4Nb6O17和K2Ti4O9粉末,经过湿磨和离心沉淀分离,用旋转涂敷法在石英玻璃基片表面制备K4Nb6O17和K2Ti4O9薄膜。对所制备K4Nb6O17薄膜进行H+离子交换和正丙胺层间插入反应,用XRD对所制备的粉末和薄膜进行了表征。结果表明:所制得的薄膜均具有层状结构,因此有希望用此方法制备半导体复合金属化合物光催化薄膜。
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关键词
旋转涂敷
K4Nb6O17
K2Ti4O9
薄膜
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职称材料
塑料晶体管制造工艺—半导体工业的第二次革命(下)
2
作者
申功烈
《电子产品世界》
2003年第04B期20-21,共2页
本文介绍了三种塑料晶体管制造工艺,即印戳印刷、喷墨打印和旋转涂敷工艺,并简单说明了塑料晶体管目前存在的一些问题。
关键词
塑料晶体管
制造工艺
半导体工业
喷墨打印
旋转涂敷
工艺
印戮印刷
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职称材料
塑料晶体管制造工艺(上)——半导体工业的第二次革命
3
作者
申功烈
《电子产品世界》
2003年第03B期75-76,共2页
本文介绍了三种塑料晶体管制造工艺,即印戳印刷、喷墨打印和旋转涂敷工艺,并简单说明了塑料晶体管目前存在的一些问题。
关键词
塑料晶体管
印戳印刷
喷墨打印
旋转涂敷
电子背板
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职称材料
CDT表面涂层技术
4
作者
刘爽
冼科
《显示器件技术》
2002年第1期20-22,共3页
本文主要阐述了显示管表面涂层技术的发展以及光学原理。随着显示管的发展,表面涂层技术主要有氢氟酸腐蚀法、硅表面涂层、防眩防静电涂层、防反射、防静电、防磁泄露多层旋转涂敷技术、真空溅射技术。由于生产技术不同,生产成本也相...
本文主要阐述了显示管表面涂层技术的发展以及光学原理。随着显示管的发展,表面涂层技术主要有氢氟酸腐蚀法、硅表面涂层、防眩防静电涂层、防反射、防静电、防磁泄露多层旋转涂敷技术、真空溅射技术。由于生产技术不同,生产成本也相差较大,膜的质量也不同,可根据显示管尺寸和需求进行选择。
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关键词
CDT
表面涂层技术
防反射
表面电阻
旋转涂敷
喷涂
显示管
酸腐蚀
防眩防静电涂层
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职称材料
题名
层状结构金属化合物薄膜的制备及表征
1
作者
袁坚
陶武刚
陈铭夏
上官文峰
机构
上海交通大学机械与动力工程学院
武汉理工大学材料科学与工程学院
出处
《机械工程材料》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第6期43-45,共3页
基金
国家自然科学基金资助项目(50076026)
上海市科技发展基金资助项目(0252nm016)
文摘
采用分析纯TiO2、Nb2O5和K2CO3粉末为原料,采用高温固相反应制备出具有层状结构的K4Nb6O17和K2Ti4O9粉末,经过湿磨和离心沉淀分离,用旋转涂敷法在石英玻璃基片表面制备K4Nb6O17和K2Ti4O9薄膜。对所制备K4Nb6O17薄膜进行H+离子交换和正丙胺层间插入反应,用XRD对所制备的粉末和薄膜进行了表征。结果表明:所制得的薄膜均具有层状结构,因此有希望用此方法制备半导体复合金属化合物光催化薄膜。
关键词
旋转涂敷
K4Nb6O17
K2Ti4O9
薄膜
Keywords
spin coating
K_4Nb_6O_(17)
K_2Ti_4O_9
thin film
分类号
TG146.1 [金属学及工艺—金属材料]
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职称材料
题名
塑料晶体管制造工艺—半导体工业的第二次革命(下)
2
作者
申功烈
机构
中国科学院电子所
出处
《电子产品世界》
2003年第04B期20-21,共2页
文摘
本文介绍了三种塑料晶体管制造工艺,即印戳印刷、喷墨打印和旋转涂敷工艺,并简单说明了塑料晶体管目前存在的一些问题。
关键词
塑料晶体管
制造工艺
半导体工业
喷墨打印
旋转涂敷
工艺
印戮印刷
分类号
TN325 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
塑料晶体管制造工艺(上)——半导体工业的第二次革命
3
作者
申功烈
出处
《电子产品世界》
2003年第03B期75-76,共2页
文摘
本文介绍了三种塑料晶体管制造工艺,即印戳印刷、喷墨打印和旋转涂敷工艺,并简单说明了塑料晶体管目前存在的一些问题。
关键词
塑料晶体管
印戳印刷
喷墨打印
旋转涂敷
电子背板
分类号
TN32 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
CDT表面涂层技术
4
作者
刘爽
冼科
机构
彩虹彩管一厂
出处
《显示器件技术》
2002年第1期20-22,共3页
文摘
本文主要阐述了显示管表面涂层技术的发展以及光学原理。随着显示管的发展,表面涂层技术主要有氢氟酸腐蚀法、硅表面涂层、防眩防静电涂层、防反射、防静电、防磁泄露多层旋转涂敷技术、真空溅射技术。由于生产技术不同,生产成本也相差较大,膜的质量也不同,可根据显示管尺寸和需求进行选择。
关键词
CDT
表面涂层技术
防反射
表面电阻
旋转涂敷
喷涂
显示管
酸腐蚀
防眩防静电涂层
分类号
TN141 [电子电信—物理电子学]
TN873 [电子电信—信息与通信工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
层状结构金属化合物薄膜的制备及表征
袁坚
陶武刚
陈铭夏
上官文峰
《机械工程材料》
CAS
CSCD
北大核心
2004
0
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职称材料
2
塑料晶体管制造工艺—半导体工业的第二次革命(下)
申功烈
《电子产品世界》
2003
0
下载PDF
职称材料
3
塑料晶体管制造工艺(上)——半导体工业的第二次革命
申功烈
《电子产品世界》
2003
0
下载PDF
职称材料
4
CDT表面涂层技术
刘爽
冼科
《显示器件技术》
2002
0
下载PDF
职称材料
已选择
0
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