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聚N-异丙基丙烯酰胺共聚物纳米膜的制备与表征
1
作者
杨磊
刘天庆
+3 位作者
马学虎
宋克东
武爽
樊鑫
《高校化学工程学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第3期494-499,共6页
报道了一种制备性能良好的温敏性纳米膜的简易方法。首先采用自由基聚合法将N-异丙基丙烯酰胺、甲基丙烯酸羟丙酯和甲基丙烯酸(3-三甲氧基硅)丙酯等原料合成为新型的PNIPAAm共聚物。通过动态光散射、傅里叶变换红外光谱、核磁共振氢谱...
报道了一种制备性能良好的温敏性纳米膜的简易方法。首先采用自由基聚合法将N-异丙基丙烯酰胺、甲基丙烯酸羟丙酯和甲基丙烯酸(3-三甲氧基硅)丙酯等原料合成为新型的PNIPAAm共聚物。通过动态光散射、傅里叶变换红外光谱、核磁共振氢谱和凝胶渗透色谱等对终产物的温敏特性、化学结构和分子量进行研究。进而采用旋转涂膜法和加热退火法在硅片或玻璃片上制备PNIPAAm共聚物纳米膜,并采用接触角测量仪、原子力显微镜和椭圆偏振仪等技术手段检测了不同制膜溶液浓度和测试温度条件下共聚物膜的表面润湿性、表面结构和总体厚度。结果表明所制备的PNIPAAm共聚物及其纳米膜均具有温敏特性,且可用于干细胞的有效收获。
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关键词
温敏性纳米膜
自由基聚合法
旋转涂膜法
加热退火法
表面接枝
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职称材料
凝胶基质有机染料薄膜制备工艺
2
作者
王华珍
郭亨群
《华侨大学学报(自然科学版)》
CAS
2004年第2期140-144,共5页
采用溶胶 凝胶工艺 ,通过旋转涂膜法在玻片上制备有机阳离子染料掺杂薄膜 ,对制膜过程中薄膜的缺陷问题进行了详细的分析和研究 .结果表明 ,溶胶的组分比例、涂膜参数、凝胶干燥和热处理是造成缺陷的主要原因 .通过调整前驱组份配比、...
采用溶胶 凝胶工艺 ,通过旋转涂膜法在玻片上制备有机阳离子染料掺杂薄膜 ,对制膜过程中薄膜的缺陷问题进行了详细的分析和研究 .结果表明 ,溶胶的组分比例、涂膜参数、凝胶干燥和热处理是造成缺陷的主要原因 .通过调整前驱组份配比、控制涂膜参数和干燥过程及温度 ,获得了光学质量良好的有机染料薄膜 .借助高倍电子显微镜、紫外可见吸收光谱等分析测试手段 ,对薄膜的光学性质进行表征 .
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关键词
溶胶-凝胶
有机阳离子染料
制备工艺
旋转涂膜法
有机染料波导薄膜
波导光学
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职称材料
反射干涉光谱法测定分子印迹敏感膜表面吸附的分子浓度
被引量:
1
3
作者
刘冬梅
王永向
+2 位作者
刘秋明
戎非
付德刚
《理化检验(化学分册)》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第6期601-603,共3页
采用旋转涂膜法在镀有五氧化二钽增强层的载玻片上制备氯霉素分子印迹敏感膜,将印迹敏感膜玻片置入不同浓度氯霉素溶液中进行吸附试验,采用反射干涉光谱检测印迹膜吸附前后的光学厚度变化值(Δnd),溶液浓度与Δnd之间呈线性关系,线性回...
采用旋转涂膜法在镀有五氧化二钽增强层的载玻片上制备氯霉素分子印迹敏感膜,将印迹敏感膜玻片置入不同浓度氯霉素溶液中进行吸附试验,采用反射干涉光谱检测印迹膜吸附前后的光学厚度变化值(Δnd),溶液浓度与Δnd之间呈线性关系,线性回归方程为Δnd=-0.37+0.20c,检出限(3s/k)为0.15 mmol.L-1。该法用于加标蜂蜜样品中氯霉素的测定,所得结果与高效液相色谱法测定结果相符,回收率为96.5%,相对标准偏差(n=5)为0.8%。
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关键词
分子印迹敏感膜
旋转涂膜法
氯霉素
反射干涉光谱法
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职称材料
题名
聚N-异丙基丙烯酰胺共聚物纳米膜的制备与表征
1
作者
杨磊
刘天庆
马学虎
宋克东
武爽
樊鑫
机构
大连理工大学化工学院化学工程系
辽宁石油化工大学环境与生物工程学院生物工程系
出处
《高校化学工程学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第3期494-499,共6页
基金
国家自然科学基金(31170945)
文摘
报道了一种制备性能良好的温敏性纳米膜的简易方法。首先采用自由基聚合法将N-异丙基丙烯酰胺、甲基丙烯酸羟丙酯和甲基丙烯酸(3-三甲氧基硅)丙酯等原料合成为新型的PNIPAAm共聚物。通过动态光散射、傅里叶变换红外光谱、核磁共振氢谱和凝胶渗透色谱等对终产物的温敏特性、化学结构和分子量进行研究。进而采用旋转涂膜法和加热退火法在硅片或玻璃片上制备PNIPAAm共聚物纳米膜,并采用接触角测量仪、原子力显微镜和椭圆偏振仪等技术手段检测了不同制膜溶液浓度和测试温度条件下共聚物膜的表面润湿性、表面结构和总体厚度。结果表明所制备的PNIPAAm共聚物及其纳米膜均具有温敏特性,且可用于干细胞的有效收获。
关键词
温敏性纳米膜
自由基聚合法
旋转涂膜法
加热退火法
表面接枝
Keywords
temperature-responsive nanofilm
free radical polymerization
spin coating
thermal annealing
surface grafting
分类号
TQ317 [化学工程—高聚物工业]
O631 [理学—高分子化学]
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职称材料
题名
凝胶基质有机染料薄膜制备工艺
2
作者
王华珍
郭亨群
机构
华侨大学信息科学与工程学院
出处
《华侨大学学报(自然科学版)》
CAS
2004年第2期140-144,共5页
文摘
采用溶胶 凝胶工艺 ,通过旋转涂膜法在玻片上制备有机阳离子染料掺杂薄膜 ,对制膜过程中薄膜的缺陷问题进行了详细的分析和研究 .结果表明 ,溶胶的组分比例、涂膜参数、凝胶干燥和热处理是造成缺陷的主要原因 .通过调整前驱组份配比、控制涂膜参数和干燥过程及温度 ,获得了光学质量良好的有机染料薄膜 .借助高倍电子显微镜、紫外可见吸收光谱等分析测试手段 ,对薄膜的光学性质进行表征 .
关键词
溶胶-凝胶
有机阳离子染料
制备工艺
旋转涂膜法
有机染料波导薄膜
波导光学
Keywords
Sol-Gel, organic cation dye, film
分类号
TN25 [电子电信—物理电子学]
TS193.21 [轻工技术与工程—纺织化学与染整工程]
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职称材料
题名
反射干涉光谱法测定分子印迹敏感膜表面吸附的分子浓度
被引量:
1
3
作者
刘冬梅
王永向
刘秋明
戎非
付德刚
机构
东南大学生物电子学国家重点实验室
东南大学苏州研究院
出处
《理化检验(化学分册)》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第6期601-603,共3页
基金
国家"863"计划资助课题(2006AA10Z436)
文摘
采用旋转涂膜法在镀有五氧化二钽增强层的载玻片上制备氯霉素分子印迹敏感膜,将印迹敏感膜玻片置入不同浓度氯霉素溶液中进行吸附试验,采用反射干涉光谱检测印迹膜吸附前后的光学厚度变化值(Δnd),溶液浓度与Δnd之间呈线性关系,线性回归方程为Δnd=-0.37+0.20c,检出限(3s/k)为0.15 mmol.L-1。该法用于加标蜂蜜样品中氯霉素的测定,所得结果与高效液相色谱法测定结果相符,回收率为96.5%,相对标准偏差(n=5)为0.8%。
关键词
分子印迹敏感膜
旋转涂膜法
氯霉素
反射干涉光谱法
Keywords
Molecular imprinting membrane
Spin-coating method
RIfS
分类号
O657.3 [理学—分析化学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
聚N-异丙基丙烯酰胺共聚物纳米膜的制备与表征
杨磊
刘天庆
马学虎
宋克东
武爽
樊鑫
《高校化学工程学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013
0
下载PDF
职称材料
2
凝胶基质有机染料薄膜制备工艺
王华珍
郭亨群
《华侨大学学报(自然科学版)》
CAS
2004
0
下载PDF
职称材料
3
反射干涉光谱法测定分子印迹敏感膜表面吸附的分子浓度
刘冬梅
王永向
刘秋明
戎非
付德刚
《理化检验(化学分册)》
CAS
CSCD
北大核心
2010
1
下载PDF
职称材料
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