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无坩埚区熔法生长的无位错硅单晶中微缺陷形成的特征 被引量:3
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作者 Э.С.法勒克维奇 И.Ф.切沃勒 《半导体杂志》 1997年第3期35-38,共4页
无坩埚区熔法生长的无位错硅单晶中微缺陷形成的特征Э.С.法勒克维奇И.Ф.切沃勒(乌克兰国立扎波罗热大学)无位错硅单晶晶体结构的完美程度,即它们体内的宏观和微观缺陷的存在,乃是目前评定硅单晶质量的主要参数之一。结构缺... 无坩埚区熔法生长的无位错硅单晶中微缺陷形成的特征Э.С.法勒克维奇И.Ф.切沃勒(乌克兰国立扎波罗热大学)无位错硅单晶晶体结构的完美程度,即它们体内的宏观和微观缺陷的存在,乃是目前评定硅单晶质量的主要参数之一。结构缺陷的特征、浓度及分布限定了硅单晶的... 展开更多
关键词 硅单晶 无位钳 无坩埚区熔法 微缺陷
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