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亚微米投影光刻物镜光学制造技术
被引量:
3
1
作者
伍凡
杨力
+3 位作者
陈强
吴时彬
许全益
张晶
《光学技术》
EI
CAS
CSCD
1998年第3期60-62,11,共4页
本文报告亚微米光刻5倍g线与i线投影光刻物镜的光学制造技术。讨论超高精度要求的球面曲率半径、透镜中心厚度、球面面形与透镜偏心差等各项指标的综合控制技术与检测方法。着重介绍了作者所发展的大口径高精度双胶合透镜的计算机辅...
本文报告亚微米光刻5倍g线与i线投影光刻物镜的光学制造技术。讨论超高精度要求的球面曲率半径、透镜中心厚度、球面面形与透镜偏心差等各项指标的综合控制技术与检测方法。着重介绍了作者所发展的大口径高精度双胶合透镜的计算机辅助无变形胶合技术。给出了加工检测结果以及镜头的主要性能指标。
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关键词
亚微米
投影光刻物镜
无变形胶合
微电子工艺
下载PDF
职称材料
题名
亚微米投影光刻物镜光学制造技术
被引量:
3
1
作者
伍凡
杨力
陈强
吴时彬
许全益
张晶
机构
中国科学院光电技术研究所
出处
《光学技术》
EI
CAS
CSCD
1998年第3期60-62,11,共4页
文摘
本文报告亚微米光刻5倍g线与i线投影光刻物镜的光学制造技术。讨论超高精度要求的球面曲率半径、透镜中心厚度、球面面形与透镜偏心差等各项指标的综合控制技术与检测方法。着重介绍了作者所发展的大口径高精度双胶合透镜的计算机辅助无变形胶合技术。给出了加工检测结果以及镜头的主要性能指标。
关键词
亚微米
投影光刻物镜
无变形胶合
微电子工艺
Keywords
sub micro, photolithographic lens, computer aid undeformation cementing technelogy.
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
亚微米投影光刻物镜光学制造技术
伍凡
杨力
陈强
吴时彬
许全益
张晶
《光学技术》
EI
CAS
CSCD
1998
3
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