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无坩埚区熔法生长的无位错硅单晶中微缺陷形成的特征
被引量:
3
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作者
Э.С.法勒克维奇
И.Ф.切沃勒
《半导体杂志》
1997年第3期35-38,共4页
无坩埚区熔法生长的无位错硅单晶中微缺陷形成的特征Э.С.法勒克维奇И.Ф.切沃勒(乌克兰国立扎波罗热大学)无位错硅单晶晶体结构的完美程度,即它们体内的宏观和微观缺陷的存在,乃是目前评定硅单晶质量的主要参数之一。结构缺...
无坩埚区熔法生长的无位错硅单晶中微缺陷形成的特征Э.С.法勒克维奇И.Ф.切沃勒(乌克兰国立扎波罗热大学)无位错硅单晶晶体结构的完美程度,即它们体内的宏观和微观缺陷的存在,乃是目前评定硅单晶质量的主要参数之一。结构缺陷的特征、浓度及分布限定了硅单晶的...
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关键词
硅单晶
无位钳
无坩埚区熔法
微缺陷
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职称材料
题名
无坩埚区熔法生长的无位错硅单晶中微缺陷形成的特征
被引量:
3
1
作者
Э.С.法勒克维奇
И.Ф.切沃勒
机构
乌克兰国立扎波罗热大学
出处
《半导体杂志》
1997年第3期35-38,共4页
文摘
无坩埚区熔法生长的无位错硅单晶中微缺陷形成的特征Э.С.法勒克维奇И.Ф.切沃勒(乌克兰国立扎波罗热大学)无位错硅单晶晶体结构的完美程度,即它们体内的宏观和微观缺陷的存在,乃是目前评定硅单晶质量的主要参数之一。结构缺陷的特征、浓度及分布限定了硅单晶的...
关键词
硅单晶
无位钳
无坩埚区熔法
微缺陷
Keywords
Vertical conduction Double scatter Field effect transister
分类号
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
TN304.053 [电子电信—物理电子学]
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作者
出处
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1
无坩埚区熔法生长的无位错硅单晶中微缺陷形成的特征
Э.С.法勒克维奇
И.Ф.切沃勒
《半导体杂志》
1997
3
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