提纯石棉尾矿酸浸渣制备无定型二氧化硅粉体

对提纯石棉尾矿酸浸渣制备无定型二氧化硅的最优工艺条件进行研究。采用对石棉尾矿酸浸渣的超细粉碎、酸浸和煅烧等方法进行提纯实验，并通过扫描电子显微镜、X射线衍射等手段对样品进行表征。结果表明，最佳提纯工艺条件为：将酸浸渣超细粉碎至d50=2．50μm，d97=11．35μm，用10％盐酸酸浸1h，最后在70000下煅烧0．5h。得到的二氧化硅比表面积为247m^2／g，SiO2〉90％，符合GB10507-89中A类标准要求。石棉尾矿酸浸渣的颗粒形状与石棉尾矿的颗粒形状基本一致，包含块状、针状等颗粒，而经过提纯处理后的酸浸渣则为块状超细颗粒。提纯前酸浸渣的矿物组成为蛇纹石20％，石英8％，滑石6％，非晶质SiO266％；提纯后矿物组成为石英6％，非晶质SiO2 90％，滑石4％。

合成无定型二氧化硅杀灭鸡皮刺螨试验研究

目的试验验证合成无定型二氧化硅对鸡皮刺螨的杀灭效果及应用的可行性。方法参照GB/T 13917.1-2009滞留喷洒剂的强迫接触法。结果 3%合成无定型二氧化硅喷射剂,按6 g a.i/m2用量,涂布于3种板面,对于鸡皮刺螨,在水泥板面24 h杀灭率100%,45 d观察期内效果未下降;硅酸盐玻璃面24 h杀灭率即为100%,醇酸清漆木板面48 h杀灭率100%。结论合成无定型二氧化硅对鸡皮刺螨具有良好的杀灭效果。

立方碳化硅CMP过程中机械作用分子动力学仿真

为了更好地理解立方碳化硅在化学机械抛光(CMP)过程中原子层面的材料去除机理,利用分子动力学(MD)方法建立了金刚石磨粒刻划碳化硅的原子模型,仿真研究了金刚石磨粒半径、刻划深度和刻划速度对碳化硅表面形貌、晶体结构、摩擦力和原子去除率的影响规律,并与无定型二氧化硅氧化膜的机械刻划作用的仿真结果进行了对比分析.结果发现:碳化硅在机械刻划过程中局部会出现非晶态变化;刻划深度增大会导致切削力和切削温度增大,原子去除率也随之增加;刻划速度的改变会影响温度和原子去除率,而对切削力几乎无影响;磨粒半径的增加会导致切削力和温度的增加,在压入深度相同的情况下对原子去除率影响不大;碳化硅表面生成的二氧化硅膜能大幅度降低切削力,但由于其结构的影响,机械刻划作用仅使氧化膜产生明显的致密化,而不产生磨屑.

蛇纹石提镁残渣直接合成有机硅化合物的研究

研究了以蛇纹石提镁残渣为原料直接合成有机硅化合物的方法。实验确定了最佳合成条件 ,用红外光谱法和 X射线衍射法对合成产物结构进行了分析。