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题名聚焦离子束系统在微米/纳米加工技术中的应用
被引量:11
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作者
张继成
唐永建
吴卫东
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机构
中国工程物理研究院激光聚变研究中心
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出处
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第F11期40-43,46,共5页
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基金
中国工程物理研究院基金资助课题(课题编号:0344020)
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文摘
聚焦离子束系统是微细加工和分析的主要技术之一,是一个完美的微米/纳米技术研究平台。简述了聚焦离子束系统的组成和主要功能,着重介绍了近年来该技术在离子束刻蚀、反应离子束刻蚀、离子束辅助沉积、离子注入、微区分析、掺杂和成像以及无掩膜曝光等微米/纳米加工领域的应用,并对未来的发展前景进行了简要分析。
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关键词
聚焦离子束
刻蚀
沉积
离子注入
微区分析与加工
无掩膜曝光
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Keywords
FIB, etching, deposition, ion implantation, analysis and micromachining, maskless lithography
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分类号
TP333.403
[自动化与计算机技术—计算机系统结构]
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题名湿法刻蚀制备微透镜阵列的影响因素
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作者
李源
韩建崴
徐珍华
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机构
中山新诺科技股份有限公司
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出处
《广东化工》
CAS
2015年第9期75-76,66,共3页
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基金
广东省引进创新科研团队项目(2011G054)
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文摘
湿法刻蚀在直接制备微透镜阵列以及制备微透镜阵列复制模具中得到了广泛应用。文章从基材、刻蚀保护层、曝光方式、刻蚀液、刻蚀工艺条件几个方面,介绍其对湿法刻蚀制备凹微透镜阵列品质的影响,并给出了批量制备高良率的微透镜阵列的建议。
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关键词
微透镜阵列
湿法刻蚀
基材
无掩膜曝光
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Keywords
micro lens array
wet etching
substrate
maskless exposure
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分类号
TQ
[化学工程]
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