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改造双极生产线Cr版代替明胶版光刻技术研究
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作者 游树达 《微电子技术》 1995年第2期20-23,共4页
本文叙述了用匀胶铅版制作光刻掩模代替超微粒干版制作光刻掩模的工艺过程,文中就图象发生器直接曝光匀胶铅版以及图象的黑白反转工艺作了较为详尽的介绍,对集成电路的光刻技术有一定参考作用。
关键词 双极生产线 Cr 明胶版 光刻技术
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铬明胶感光版常见故障的排除
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作者 王清友 《印刷技术》 1994年第3期12-13,共2页
铬明胶感光玻璃版(以下简称铬版),应用到照相制版工艺已数十年,它曾简化了制版程序,缩短了制版周期。近些年制版技术发展很快,制版软片种类较多,有些兄弟厂已采用软片拼贴和联拷的办法替代了铬版工艺。但我厂目前有些印刷品的制版还离... 铬明胶感光玻璃版(以下简称铬版),应用到照相制版工艺已数十年,它曾简化了制版程序,缩短了制版周期。近些年制版技术发展很快,制版软片种类较多,有些兄弟厂已采用软片拼贴和联拷的办法替代了铬版工艺。但我厂目前有些印刷品的制版还离不开铬版制叛工艺。例如:地图、矿图。 展开更多
关键词 明胶感光 故障 排除
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