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纳夫妥显色与蜡印同步进行替代靛蓝染底的工艺探讨
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作者 郑春耕 李金玲 《山东纺织科技》 2006年第4期15-18,共4页
文章介绍了真蜡印布的风格特征,分析了蜡印防染靛蓝和纳夫妥的工艺原理,讨论了纳夫妥替代靛蓝染底工艺理论上的可行性和生产实践的可操作性,指出了该工艺替代过程的技术关键和应当采取的必要措施,目的在于缩短真蜡印布的生产过程、降低... 文章介绍了真蜡印布的风格特征,分析了蜡印防染靛蓝和纳夫妥的工艺原理,讨论了纳夫妥替代靛蓝染底工艺理论上的可行性和生产实践的可操作性,指出了该工艺替代过程的技术关键和应当采取的必要措施,目的在于缩短真蜡印布的生产过程、降低生产成本,从而提高产品市场竞争力。 展开更多
关键词 防染 纳夫妥代靛蓝 染料筛选 显色与蜡印同步 温度控制
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