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CVD金刚石膜中的缺陷
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作者 张恒大 刘敬明 +2 位作者 宋建华 吕反修 唐伟忠 《北京科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第4期426-428,共3页
研究了利用直流电弧等离子体喷射（DC Arc Plasma Jet）的制备的大面积金刚石膜中的缺陷问题.研究表明:金刚石膜中的缺陷包括表面缺陷、晶内缺陷和晶界缺陷,以及由于内应力产生的金刚石膜宏观和微观裂纹.金刚石膜中的缺陷与制备工艺参... 研究了利用直流电弧等离子体喷射（DC Arc Plasma Jet）的制备的大面积金刚石膜中的缺陷问题.研究表明:金刚石膜中的缺陷包括表面缺陷、晶内缺陷和晶界缺陷,以及由于内应力产生的金刚石膜宏观和微观裂纹.金刚石膜中的缺陷与制备工艺参数有着密切关系. 展开更多
关键词 CVD 金刚石膜 表面缺陷 成因分析 等离子体喷射 晶内缺陷 晶界缺陷 化学气相沉积
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