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硅晶圆的晶向偏离度测定方法探索
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作者 郑捷 曹孜 +5 位作者 赵而敬 蔡丽艳 安瑞阳 苏冰 何宇 路一辰 《产业与科技论坛》 2019年第7期72-73,共2页
本文介绍了晶向偏离度的测定方法,阐述了三种不同要求下晶向偏离度的测定方法,并描述了一些可能导致晶向偏离度计算错误或者晶向偏离不一致的情况。
关键词 半导体工艺 晶向 晶向偏离度
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锗单晶片边缘损伤影响因素分析 被引量:1
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作者 杨洪星 王雄龙 何远东 《电子工业专用设备》 2017年第2期7-10,共4页
新一代太阳电池所需的锗片厚度仅为140μm,在加工过程中更容易出现边缘破损,因此,锗片的边缘质量控制更为迫切。从单晶质量控制、滚圆及参考面制作出发,对锗片边缘质量的影响因素进行了分析,并提出相应的解决措施,提升了超薄锗片的边缘... 新一代太阳电池所需的锗片厚度仅为140μm,在加工过程中更容易出现边缘破损,因此,锗片的边缘质量控制更为迫切。从单晶质量控制、滚圆及参考面制作出发,对锗片边缘质量的影响因素进行了分析,并提出相应的解决措施,提升了超薄锗片的边缘完整性。 展开更多
关键词 边缘损伤 晶向偏离度
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