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先进ATHENA^(TM)选用策略与对准功能(英文)
1
作者
程天风
Jeroen Huijbregtse
+1 位作者
Richard van Haren
André Jeunink
《电子工业专用设备》
2004年第2期28-35,共8页
基于先进科技对准规格的减缩,对准仪量测数据的应用也变得更为重要。不同对准策略的选择所引起的结果,对全部对准预算有很重要的影响。介绍两个主要科技研发项目:先进对准配套和对准标的设计。
关键词
对准系统
多组光栅标
化学机械抛光
晶圆对位
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职称材料
题名
先进ATHENA^(TM)选用策略与对准功能(英文)
1
作者
程天风
Jeroen Huijbregtse
Richard van Haren
André Jeunink
机构
阿斯麦光刻设备公司
出处
《电子工业专用设备》
2004年第2期28-35,共8页
文摘
基于先进科技对准规格的减缩,对准仪量测数据的应用也变得更为重要。不同对准策略的选择所引起的结果,对全部对准预算有很重要的影响。介绍两个主要科技研发项目:先进对准配套和对准标的设计。
关键词
对准系统
多组光栅标
化学机械抛光
晶圆对位
Keywords
Alignment system
VSPM
CMP
Wafer alignment
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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作者
出处
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1
先进ATHENA^(TM)选用策略与对准功能(英文)
程天风
Jeroen Huijbregtse
Richard van Haren
André Jeunink
《电子工业专用设备》
2004
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