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晶态WO_3电致变色薄膜和器件的制备及性能研究 被引量:2
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作者 张学科 李合琴 +3 位作者 周矗 颜毓雷 王伟 乔恺 《合肥工业大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2014年第5期534-537,共4页
文章用射频磁控反应溅射法,以钨靶为溅射靶材,在玻璃和ITO衬底上分别制备了WO3薄膜,氧气和氩气的流量比值为5∶25,工作气压为1.5Pa,所有样品均进行了400℃保温1h的退火。通过改变溅射功率,研究了功率对WO3薄膜的相组成、表面形貌、可见... 文章用射频磁控反应溅射法,以钨靶为溅射靶材,在玻璃和ITO衬底上分别制备了WO3薄膜,氧气和氩气的流量比值为5∶25,工作气压为1.5Pa,所有样品均进行了400℃保温1h的退火。通过改变溅射功率,研究了功率对WO3薄膜的相组成、表面形貌、可见光透过率的影响,最终得到溅射功率为100~70 W的WO3晶态薄膜的电致变色性能最好。 展开更多
关键词 晶态wo3薄膜 射频磁控反应溅射 透过率 电致变色
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