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利用高斯分布模型研究多晶硅晶界电学特性
被引量:
3
1
作者
孟凡英
崔容强
孙铁囤
《上海交通大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第6期813-816,共4页
研究了多晶硅晶界的载流子输运过程和导电机制 ,建立了新的晶界结构模型和晶界势垒分布模型 .将晶界区域及其势垒的变化视为高斯分布 ,利用这个模型 ,给出了改善的电流 -电压特性方程 ,并用这个关系式来解释多晶硅的电学特性 .数值计算...
研究了多晶硅晶界的载流子输运过程和导电机制 ,建立了新的晶界结构模型和晶界势垒分布模型 .将晶界区域及其势垒的变化视为高斯分布 ,利用这个模型 ,给出了改善的电流 -电压特性方程 ,并用这个关系式来解释多晶硅的电学特性 .数值计算表明 ,多硅电阻率随势垒高度的增加而基本呈线性增加 .另外 ,电阻率 ρ随掺杂浓度的增加而减小 ,当掺杂剂浓度约为 1× 1 0 19cm-3 ,ρ和 ρgb下降最快 .且在晶粒尺寸为 1 0 2 nm范围内晶界的电阻率比晶粒的电阻率约大 2~ 3个数量级 .分析结果表明 ,晶界是高电阻区 ,晶界的这种精细分布描述 ,有助于进一步理解多晶硅的晶界特性 ,从而提高多晶硅太阳电池的光电转换效率 .
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关键词
电学特性
高斯
分布
模型
多晶硅
晶界
结构
模型
晶界势垒分布模型
电阻率
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职称材料
题名
利用高斯分布模型研究多晶硅晶界电学特性
被引量:
3
1
作者
孟凡英
崔容强
孙铁囤
机构
上海交通大学应用物理系太阳能研究所
出处
《上海交通大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第6期813-816,共4页
文摘
研究了多晶硅晶界的载流子输运过程和导电机制 ,建立了新的晶界结构模型和晶界势垒分布模型 .将晶界区域及其势垒的变化视为高斯分布 ,利用这个模型 ,给出了改善的电流 -电压特性方程 ,并用这个关系式来解释多晶硅的电学特性 .数值计算表明 ,多硅电阻率随势垒高度的增加而基本呈线性增加 .另外 ,电阻率 ρ随掺杂浓度的增加而减小 ,当掺杂剂浓度约为 1× 1 0 19cm-3 ,ρ和 ρgb下降最快 .且在晶粒尺寸为 1 0 2 nm范围内晶界的电阻率比晶粒的电阻率约大 2~ 3个数量级 .分析结果表明 ,晶界是高电阻区 ,晶界的这种精细分布描述 ,有助于进一步理解多晶硅的晶界特性 ,从而提高多晶硅太阳电池的光电转换效率 .
关键词
电学特性
高斯
分布
模型
多晶硅
晶界
结构
模型
晶界势垒分布模型
电阻率
Keywords
electric property
Gauss distribution model
grain boundary(GB)
polysilicon
分类号
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
利用高斯分布模型研究多晶硅晶界电学特性
孟凡英
崔容强
孙铁囤
《上海交通大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001
3
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职称材料
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