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圆晶级CSP组装及其可靠性
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作者 Michael Meilunas Parvez Patel 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2004年第8期6-9,共4页
关键词 芯片封装 晶级组装 可靠性 表面贴装
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纳米级细晶表面电极材料的制备 被引量:5
2
作者 李海涛 《氯碱工业》 CAS 1998年第2期9-11,共3页
制备了一种称为松糕状形态的表面涂层钛阳极,它不同于一般呈龟裂状形态的涂层钛阳极。在稀氯化钠溶液的电解实验中,取得令人满意的实验结果。
关键词 钛基涂层 电极 纳米 电解槽 氯碱工业
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金属化布线晶片级测试系统
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作者 孙英华 郭伟玲 +3 位作者 程尧海 孙喆 李志国 张万荣 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1999年第1期58-60,共3页
晶片级测试方法是半导体器件(VLSI)金属化可靠性试验中的一种新方法,本研究在现有设备的基础上进行了一系列的设计和改进,建立了一套由微机控制的晶片级金属化电徙动测试系统,为金属化可靠性测试和在线监测的研究奠定了良好的... 晶片级测试方法是半导体器件(VLSI)金属化可靠性试验中的一种新方法,本研究在现有设备的基础上进行了一系列的设计和改进,建立了一套由微机控制的晶片级金属化电徙动测试系统,为金属化可靠性测试和在线监测的研究奠定了良好的基础。 展开更多
关键词 半导体器件 可靠性 测试
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超CSP的晶片级封装(刊中刊)
4
作者 李桂云 《印制电路与贴装》 2001年第9期5-10,共6页
在人们不断地追求更小,更轻,更薄的产品动力的推动下,Tessera等几家公司自1997年以来,面对市场的挑战,开发研制出了一种超CSP的晶片级封装,这种封装是一种新型CSP封装技术,其优点之一是使用了标准的IC封装技术,开发这种类型封... 在人们不断地追求更小,更轻,更薄的产品动力的推动下,Tessera等几家公司自1997年以来,面对市场的挑战,开发研制出了一种超CSP的晶片级封装,这种封装是一种新型CSP封装技术,其优点之一是使用了标准的IC封装技术,开发这种类型封装的出发点,除了实现更轻,更薄和更小外,还有成本和性能方面的因素,虽然晶片级封装的推广应用还存在着这样和那样的问题,但是最终会在不断完善的基础上得到电子组装业的认可,并将作为一种主流技术得到广泛的应用。 展开更多
关键词 封装 CSP 组装工艺 微电子
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晶圆级CSP组装及其可靠性——晶圆级CSP贴装问题测试
5
《现代制造》 2004年第15期34-34,36,共2页
圆晶级器件的长期可靠性是我们必须考虑的一个因素。与传统的CSP相比,圆晶级CSP产生较少的封装破裂(爆米花)、芯片衬底分层和其他的湿致缺陷。不过圆晶级CSP的机械和热性能仍由硅片决定。但这仍意味着与传统CSP相比,圆晶级CSP一般具有... 圆晶级器件的长期可靠性是我们必须考虑的一个因素。与传统的CSP相比,圆晶级CSP产生较少的封装破裂(爆米花)、芯片衬底分层和其他的湿致缺陷。不过圆晶级CSP的机械和热性能仍由硅片决定。但这仍意味着与传统CSP相比,圆晶级CSP一般具有低得多的热膨胀系数(CTE)并且更硬,更能抵抗热和机械原因导致的压力。 展开更多
关键词 晶级器件 CSP组装 可靠性 测试
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Ultra CSP晶片级封装
6
《今日电子》 2002年第11期9-9,共1页
关键词 UltraCSP 封装 再分布技术 管芯测试
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理解倒装芯片和晶片级封装技术及其应用
7
《国外电子元器件》 2007年第8期76-77,共2页
1 引言 半导体技术的进步大大提高了芯片晶体管数量和功能,这一集成规模在几年前是无法想象的。因此,如果没有IC封装技术快速的发展,不可能实现便携式电子产品的设计。在消费类产品小型化和更轻、更薄发展趋势的推动下,制造商开发... 1 引言 半导体技术的进步大大提高了芯片晶体管数量和功能,这一集成规模在几年前是无法想象的。因此,如果没有IC封装技术快速的发展,不可能实现便携式电子产品的设计。在消费类产品小型化和更轻、更薄发展趋势的推动下,制造商开发出更小的封装类型。最小的封装当然是芯片本身.图1描述了IC从晶片到单个芯片的实现过程,图2为一个实际的晶片级封装(CSP)。 展开更多
关键词 封装 倒装芯片 封装技术 便携式电子产品 应用 体管数量 半导体技术 发展趋势
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从晶片到组件系统小型化的新方案
8
作者 盛水源 《集成电路应用》 2003年第12期37-40,共4页
当今除了微电子元件的传统结构方式外,业界越来越多的使用芯片大小的组件(CSPs)和倒装芯片。这些是最小的尺寸,但还与较高的成本联系在一起或对安装技术提出了特殊的要求。本文介绍一种新方案,它使元件生产时降低成本并在提高可靠性的... 当今除了微电子元件的传统结构方式外,业界越来越多的使用芯片大小的组件(CSPs)和倒装芯片。这些是最小的尺寸,但还与较高的成本联系在一起或对安装技术提出了特殊的要求。本文介绍一种新方案,它使元件生产时降低成本并在提高可靠性的同时简化安装。 展开更多
关键词 组件 倒装芯片 BGA CSP 封装
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Drop failure modes of Sn-3.0Ag-0.5Cu solder joints in wafer level chip scale package 被引量:5
9
作者 黄明亮 赵宁 +1 位作者 刘爽 何宜谦 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第6期1663-1669,共7页
To reveal the drop failure modes of the wafer level chip scale packages (WLCSPs) with Sn-3.0Ag-0.5Cu solder joints, board level drop tests were performed according to the JEDEC standard. Six failure modes were iden... To reveal the drop failure modes of the wafer level chip scale packages (WLCSPs) with Sn-3.0Ag-0.5Cu solder joints, board level drop tests were performed according to the JEDEC standard. Six failure modes were identified, i.e., short FR-4 cracks and complete FR-4 cracks at the printing circuit board (PCB) side, split between redistribution layer (RDL) and Cu under bump metallization (UBM), RDL fracture, bulk cracks and partial bulk and intermetallic compound (IMC) cracks at the chip side. For the outmost solder joints, complete FR-4 cracks tended to occur, due to large deformation of PCB and low strength of FR-4 dielectric layer. The formation of complete FR-4 cracks largely absorbed the impact energy, resulting in the absence of other failure modes. For the inner solder joints, the absorption of impact energy by the short FR-4 cracks was limited, resulting in other failure modes at the chip side. 展开更多
关键词 Sn-3.0Ag-0.5Cu wafer level chip scale package solder joint drop failure mode
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MEMS封装技术 被引量:10
10
作者 陈一梅 黄元庆 《传感器技术》 CSCD 北大核心 2005年第3期7-9,12,共4页
介绍了微机电(MEMS)封装技术,包括晶片级封装、单芯片封装和多芯片封装、模块式封装与倒装焊3种很有前景的封装技术。指出了MEMS封装的几个可靠性问题,最后,对MEMS封装的发展趋势作了分析。
关键词 微机电封装 单芯片 多芯片 模块 倒装焊
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Boron removal from metallurgical silicon using CaO-SiO_2-CaF_2 slags 被引量:7
11
作者 蔡靖 李锦堂 +2 位作者 陈文辉 陈朝 罗学涛 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第6期1402-1406,共5页
The removal of boron from metallurgical silicon in slag system of CaO-SiO2-10%CaF2 was investigated. The partition coefficient of boron (LB) between slag and silicon phase was studied under different conditions of s... The removal of boron from metallurgical silicon in slag system of CaO-SiO2-10%CaF2 was investigated. The partition coefficient of boron (LB) between slag and silicon phase was studied under different conditions of slag basicity (CaO/SiO2 ratio), temperature, mass ratio of slag to silicon and gas blowing. The results show that LB has a maximum value of 4.61 when the CaO/SiO2 mass ratio is around 2 at l 873 K. The logarithm of LB is linear to the reciprocal of temperatures in the range of 1 773-1 973 K. LB increases with the increase of mass ratio of slag to silicon, but it does not increase markedly when the ratio excesses 3. Gas blowing can sionificantlv increase the removal of boron, and LR increases with the increase of water vapor content. 展开更多
关键词 solar grade silicon slag treatment boron removal partition coefficient
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Preparation, microstructure and dislocation of solar-grade multicrystalline silicon by directional solidification from metallurgical-grade silicon 被引量:5
12
作者 苏海军 张军 +1 位作者 刘林 傅恒志 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第10期2548-2553,共6页
A vacuum directional solidification with high temperature gradient was performed to prepare low cost solar-grade multicrystalline silicon (mc-Si) directly from metallurgical-grade mc-Si. The microstructure character... A vacuum directional solidification with high temperature gradient was performed to prepare low cost solar-grade multicrystalline silicon (mc-Si) directly from metallurgical-grade mc-Si. The microstructure characteristic, grain size, boundary, solid-liquid growth interface, and dislocation structure under different growth conditions were studied. The results show that directionally solidified multicrystalline silicon rods with high density and orientation can be obtained when the solidification rate is below 60 μm/s. The grain size gradually decreases with increasing the solidification rate. The control of obtaining planar solid-liquid interface at high temperature gradient is effective to produce well-aligned columnar grains along the solidification direction. The growth step and twin boundaries are preferred to form in the microstructure due to the faceted growth characteristic of mc-Si. The dislocation distribution is inhomogeneous within crystals and the dislocation density increases with the increase of solidification rate. Furthermore, the crystal growth behavior and dislocation formation mechanism of mc-Si were discussed. 展开更多
关键词 multi-crystalline silicon metallurgical-grade silicon silicon solar cell directional solidification MICROSTRUCTURE
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Low-temperature purification process of metallurgical silicon 被引量:8
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作者 赵立新 王志 +1 位作者 郭占成 李成义 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第5期1185-1192,共8页
The removal of B and P consumes most of heat energy in Si metallurgical purification process for solar-grade Si. Metal-liquating purification of metallurgical grade silicon (MG-Si), also called Si-recrystallization ... The removal of B and P consumes most of heat energy in Si metallurgical purification process for solar-grade Si. Metal-liquating purification of metallurgical grade silicon (MG-Si), also called Si-recrystallization from metal liquid, was a potential energy-saving method for the removal of B and P efficiently, since Si could be melted at lower temperature by alloying with metal. The selection criteria of metal-liquating system was elaborated, and Al, Sn and In were selected out as the optimum metallic mediums. For Sn-Si system, the segregation coefficient of B decreased to 0.038 at 1 500 K, which was much less than 0.8 at the melting point of Si. The mass fraction of B was diminished from 15×10^-6 to 0.1×10^-6 as MG-Si was purified by twice, while that of most metallic elements could be decreased to 0.1×10^-6 by purifying just once. During the metal-liquating process, the formation of compounds between impurity elements and Si was also an important route of impurity removal. Finally, one low-temperature metallurgical process based on metal-liquating method was proposed. 展开更多
关键词 metal liquating method metallurgical purification process tin-silicon system solar grade silicon
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集成电路可靠性电迁移评估技术 被引量:4
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作者 江清明 何小琦 +1 位作者 杨春晖 周继承 《电子质量》 2006年第8期30-32,共3页
随着VLSI集成度的提高,金属化互连线的几何尺寸亦不断缩小,电迁移成为更为严重的可靠性问题,电迁移评估技术也越来越多。本文全面地总结了各种电迁移评估技术。
关键词 电迁移 速度漂移 低频噪声 Trace法
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Circuit-Level Analysis on Opto-Electronic Characteristics of Ferroelectric Liquid Crystal 被引量:1
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作者 朱思奇 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第10期1523-1526,共4页
We propose an electronic model in Spice, instead of traditional mathematical analysis, for analyzing the performance of ferroelectric liquid crystal (FLC) under various working conditions. Using this equivalent circ... We propose an electronic model in Spice, instead of traditional mathematical analysis, for analyzing the performance of ferroelectric liquid crystal (FLC) under various working conditions. Using this equivalent circuit model,it is easy to simulate and analyze the behavior of an FLC layer in three different typical parameters,including temperature, input light wavelength, and the frequency of driving voltage. We conclude that the response velocity drops as the wavelength increases in the range of visible light, and for the parameter of temperature, the velocity reaches its lowest value when the temperature reaches a certain degree,meanwhile,the frequency of driving voltage exerts important effects on the response velocity only when the frequency is beyond a critical value. Excellent agreement is achieved between simulation and experimental results. 展开更多
关键词 ferroelectric liquid crystal circuit-level analysis response characteristics typical parameters
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Effect of thermal annealing on defects of upgraded metallurgical grade silicon 被引量:3
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作者 吴洪军 马文会 +4 位作者 陈秀华 蒋咏 梅向阳 张聪 吴兴惠 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第6期1340-1347,共8页
Effect of thermal annealing on the upgraded metallurgical grade(UMG)-Si was investigated under different conditions.The dislocation,grain boundaries and preferred growth orientation of Si ingot were characterized by... Effect of thermal annealing on the upgraded metallurgical grade(UMG)-Si was investigated under different conditions.The dislocation,grain boundaries and preferred growth orientation of Si ingot were characterized by optical microscopy,electron back scattering diffraction(EBSD) and X-ray diffractometry(XRD),respectively.The arrange order of dislocation density of Si ingot is from the lowest in the middle to the lower in the bottom and low in the top before and after annealing.And it decreases gradually with increase of the annealing temperature.The number of small angle grain boundaries declines gradually until disappears whereas the proportion of coincidence site lattice(CSL) grain boundaries increases firstly and then decreases.The twin boundary Σ3 reaches the highest proportion of 28% after annealing at 1 200 ℃ for 3 h.Furthermore,the crystal grains in different positions gain the best preferred growth orientation,which can promote the following machining of Si ingot and the conversion efficiency of solar cells. 展开更多
关键词 upgraded metallurgical grade(UMG-Si) ANNEALING dislocation density grain boundaries
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复合型多晶金刚石末级压砧的制备并标定六面顶压机6-8型压腔压力至35GPa 被引量:15
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作者 王海阔 贺端威 +5 位作者 许超 刘方明 邓佶睿 何飞 王永坤 寇自力 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第18期87-93,共7页
通过分析二级6-8型大腔体静高压装置八面体压腔的受力状况,研制了一种使用成本低、尺寸大且易于加工的多晶金刚石-硬质合金复合二级(末级)顶锤(压砧).采用原位电阻测量观测Zr在高压下相变(α-ω,7.96 GPa;ω-β,34.5 GPa)的方法,标定了... 通过分析二级6-8型大腔体静高压装置八面体压腔的受力状况,研制了一种使用成本低、尺寸大且易于加工的多晶金刚石-硬质合金复合二级(末级)顶锤(压砧).采用原位电阻测量观测Zr在高压下相变(α-ω,7.96 GPa;ω-β,34.5 GPa)的方法,标定了由多晶金刚石-硬质合金复合末级压砧构建的5.5/1.5(传压介质边长/二级顶锤锤面边长,单位:mm)组装的腔体压力.实验表明,自行研制的多晶金刚石-硬质合金复合末级压砧可使基于国产六面顶压机构架的二级加压系统的压力产生上限从约20 GPa提高到35 GPa以上,拓展了国内大腔体静高压技术的压力产生范围.应用这一技术,我们期望经过末级压砧材料与压腔设计的进一步优化,在基于国产六面顶压机的二级6-8型大腔体静高压装置压腔中产生超过50 GPa的高压. 展开更多
关键词 6 8型大腔体静高压装置 金刚石一硬质合金复合末压砧 压力标定
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One-Dimensional InP-Based Photonic Crystal Quantum Cascade Laser Emitting at 5.36μm 被引量:1
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作者 李路 邵烨 +2 位作者 刘俊岐 刘峰奇 王占国 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第7期1278-1280,共3页
An InP-based one-dimensional photonic crystal quantum cascade laser is realized. With photo lithography instead of electron beam lithography and using inductively coupled plasma etching, four-period air-semiconductor ... An InP-based one-dimensional photonic crystal quantum cascade laser is realized. With photo lithography instead of electron beam lithography and using inductively coupled plasma etching, four-period air-semiconductor couples are defined as Bragg reflectors at one end of the resonator. The spectral measurement at 80K shows the quasi-continuous-wave operation with the wavelength of 5.36μm for a 22gm-wide and 2mm-long epilayer-up bonded device. 展开更多
关键词 quantum cascade laser photonic crystal QUASI-CONTINUOUS-WAVE
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金刚石形貌电脑检测系统的简介与应用
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作者 向震泽 H.Schmid +1 位作者 陈伟恩 林清民 《工业金刚石》 2003年第4期58-62,共5页
由于工业用金刚石优异的物理性质及机械性质,以及在各方面应用技术的成熟,近年来的需求量增加很大,但是却一直缺乏一套能正确又快速的方法来鉴定工业金刚石的品质。以往一段时间,只有利用一些传统的筛选及目视的方法来大略的辨别金... 由于工业用金刚石优异的物理性质及机械性质,以及在各方面应用技术的成熟,近年来的需求量增加很大,但是却一直缺乏一套能正确又快速的方法来鉴定工业金刚石的品质。以往一段时间,只有利用一些传统的筛选及目视的方法来大略的辨别金刚石颗粒的晶形、粒径大小。本文讨论利用Diashape计算机软件和电子计算机,精确地检测出金刚石的形状、大小、颜色、透光度、纯净度、杂质含量、粗糙度等性质,用以简单、快速而准确地确定金刚石的晶级。测定粒度范围,从20/30^#~1—3μm。目前这种方法已经在中国、韩国、日本、台湾地区、东南亚地区、欧洲、美洲等很多国家和地区获得了较为广泛的应用。 展开更多
关键词 人造金刚石 形貌 电脑检测系统 工业金刚石 晶级
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电子封装技术的发展趋势
20
作者 李桂云 《集成电路应用》 2003年第4期6-10,共5页
近十年来,μBGA、FPT、超细间距(UFP)、阵列表面组装(ASM)及芯片级封装(CSP)以及晶片级封装(WLP)的相继推广应用使电子封装工艺、技术向着高密度、高柔性、高可靠性和多样化的方向发展。微电子封装向高密度发展主要体现在四个方面。一... 近十年来,μBGA、FPT、超细间距(UFP)、阵列表面组装(ASM)及芯片级封装(CSP)以及晶片级封装(WLP)的相继推广应用使电子封装工艺、技术向着高密度、高柔性、高可靠性和多样化的方向发展。微电子封装向高密度发展主要体现在四个方面。一是封装的引线数量越来越多。 展开更多
关键词 电子封装 多芯片模块 MCM 球栅阵列 BGA 芯片尺寸封装 CSP 阵列技术 封装 WLP
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