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X衍射法分析CVD制备SnO_2多晶膜的构成及其对气敏特性的影响 被引量:2
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作者 颜永美 沈华 蔡玉霜 《固体电子学研究与进展》 CSCD 北大核心 1995年第2期185-189,共5页
通过X光衍射图分析,确认了较低温度下CVD法生长的非掺杂SnO2晶膜含有较多的偏离SnO2配位的晶体成份,从而定性地解释了该晶膜具有较高的气体敏感度的现象。
关键词 X光衍射法 晶膜构成 气体敏感度 二氧化锡 CVD法
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