分子筛膜晶间缺陷控制与修复技术研究进展

分子筛膜因其高效、节能、稳定的特点,已应用于渗透汽化、膜蒸馏、气体分离等领域。然而,膜面晶间缺陷是影响分子筛膜分离性能的主要因素之一,阻碍分子筛膜进一步工业应用。本文从“合成中控制技术”和“合成后修复技术”两个角度综述了近年来国内外研究者对分子筛膜晶间缺陷控制与修复技术的最新研究进展。其中,“合成中控制”部分主要关注分子筛膜层生长过程中导致缺陷生成的因素及其控制手段,包括支撑体性质、分子筛晶种性质、晶种涂覆方式、二次水热生长调节方式和焙烧脱模方式等;“合成后修复”部分主要介绍了应对成膜后晶间缺陷的修饰与封堵技术。消除晶间缺陷的总体思路是通过技术手段增强晶体面内交互共生特性、减少热致开裂以及开发更加精准、高效、低耗的修复技术。未来,面对更高的产业化要求,应整合制备全流程的缺陷控制与修复手段,开发低成本、低能耗、短流程的膜制备技术。

镍铜合金类零件渗透检测方法分析

镍铜合金以其耐高温、耐腐蚀、耐磨损、易加工等优势在设备零件制造领域得到广泛应用。为保证镍铜合金类零件应用的可靠性、安全性、持续性,需要做好其质量与性能检测,以及时发现缺陷零件,做好相关处理工作。渗透检测是镍铜合金类零件质量检测重要手段,但在实践中经常发生晶间裂纹漏检问题,降低渗透检测结果的准确性、可靠性。现从理论与实践两个角度探寻镍铜合金类零件渗透检测问题,以获取较好镍铜合金类零件渗透检测方法。理论角度简要对镍铜合金类零件质量检测、渗透检测原理与方法进行介绍;实践角度主要对镍铜合金类零件渗透检测结果影响因素、改进方法及其应用效果进行探究。结果表明,镍铜合金类零件表面状态对渗透检测结果影响较大,利用三氯化铁溶液对镍铜合金类零件进行预处理,能够在一定程度上降低表面状态影响,减少晶间裂纹漏检率,提高渗透检测结果的准确性、可靠性。

Defect in photonic crystal with negative index material

The transmission property of the photonic crystal containing negative index material is analyzed by means of transfer matrix method.It is demonstrated that a defect mode appears in the conventional Bragg gap and the defect mode is sensitive to the position of the defect cell.For the first time to our knowledge we introduce two defects into such a structure and discuss the dependence of the transmission on the interval of the two defect cells.It is found that a wide degenerate defect mode appears in the Bragg gap,and this degenerate defect mode splits into two different defect modes when the two defect cells become closer.