-
题名高压晶闸管的双正斜角造型及表面保护
- 1
-
-
作者
周知义
-
机构
株洲电力机车研究所半导体厂
-
出处
《电力电子技术》
CSCD
北大核心
2005年第5期141-142,共2页
-
文摘
结合KP9500-55晶闸管的研究课题,对晶闸管的正负斜角、双正斜角等表面造型进行了分析,并结合工厂的生产实践,探讨了应用不同表面造型的可能性。采用由刻槽法获得的双正斜角表面造型,可形成管芯电压合格率稳定在60%~80%之间的生产能力。实验结果表明,采用刻槽方式的双正斜角造型,槽深在片厚的0.60~0.66范围,两次喷腐,表面采用硅橡胶保护,可以制成正反阻断特性接近,电压达到5.5kV的高压晶闸管,值得推广应用于高压器件在研制。
-
关键词
晶闸管/双正斜角
刻槽法
表面腐蚀
表面保护
-
Keywords
thyristor/double positive bevel
groove engraving
surface etching
surface protection
-
分类号
TN341
[电子电信—物理电子学]
-