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基于接近接触式曝光机的暗场对准技术
1
作者
王振宇
周卓跃
李康平
《电子工业专用设备》
2024年第5期47-51,共5页
为了解决接近接触式曝光机实际生产过程中标记范围较小的问题,设计一种气缸控制结构。配合显微镜的升降和显微镜的光路,形成一套适用于接近接触式曝光机的暗场对准的软硬件技术,实现了暗场掩膜对准的成本降低,提升了接近接触式曝光机的...
为了解决接近接触式曝光机实际生产过程中标记范围较小的问题,设计一种气缸控制结构。配合显微镜的升降和显微镜的光路,形成一套适用于接近接触式曝光机的暗场对准的软硬件技术,实现了暗场掩膜对准的成本降低,提升了接近接触式曝光机的对准效率和稳定性提升。
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关键词
曝光机
暗场对准
误差补偿
下载PDF
职称材料
硅片光刻中的暗场对准实验研究
2
作者
徐振明
徐常胜
《激光与光电子学进展》
CSCD
1995年第A01期213-213,共1页
关键词
硅片
光刻
暗场对准
实验
原文传递
题名
基于接近接触式曝光机的暗场对准技术
1
作者
王振宇
周卓跃
李康平
机构
中国电子科技集团公司第四十五研究所
出处
《电子工业专用设备》
2024年第5期47-51,共5页
文摘
为了解决接近接触式曝光机实际生产过程中标记范围较小的问题,设计一种气缸控制结构。配合显微镜的升降和显微镜的光路,形成一套适用于接近接触式曝光机的暗场对准的软硬件技术,实现了暗场掩膜对准的成本降低,提升了接近接触式曝光机的对准效率和稳定性提升。
关键词
曝光机
暗场对准
误差补偿
Keywords
Mask-Aligner
Dark field alignment
Error compensation
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
硅片光刻中的暗场对准实验研究
2
作者
徐振明
徐常胜
出处
《激光与光电子学进展》
CSCD
1995年第A01期213-213,共1页
关键词
硅片
光刻
暗场对准
实验
分类号
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
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1
基于接近接触式曝光机的暗场对准技术
王振宇
周卓跃
李康平
《电子工业专用设备》
2024
0
下载PDF
职称材料
2
硅片光刻中的暗场对准实验研究
徐振明
徐常胜
《激光与光电子学进展》
CSCD
1995
0
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