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ZEMAX软件在曝光光源设计中的应用
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作者 蒲继祖 《电子工业专用设备》 2012年第8期40-43,共4页
以光学设计软件ZEMAX为依托,结合曝光光源设计思路,并以实例展示设计方法和描述它的实用性,利用ZEMAX计算机辅助设计分析了曝光光源的鬼点。
关键词 曝光光源 ZEMAX软件 计算机辅助设计 鬼点
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不用大尺寸掩膜版的曝光机
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《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2005年第5期396-396,共1页
V.Tech.公司开发了6、7代TFT-LCD生产线的不用大尺寸掩膜版的曝光机。该曝光设备只要设定基板第一层的图形之后,在不使用大尺寸掩膜版的情况下能够完成后面工序的曝光工艺;同时具有图形监测系统和许多个曝光光源,以及在基板移动方... V.Tech.公司开发了6、7代TFT-LCD生产线的不用大尺寸掩膜版的曝光机。该曝光设备只要设定基板第一层的图形之后,在不使用大尺寸掩膜版的情况下能够完成后面工序的曝光工艺;同时具有图形监测系统和许多个曝光光源,以及在基板移动方向上约5cm宽度的形成图形的掩膜版装置,可边移动基板边曝光, 展开更多
关键词 曝光 掩膜版 曝光工艺 曝光光源 图形传感器
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全自动曝光机设计
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作者 王翔 《科技资讯》 2012年第33期76-77,共2页
数控技术和数控机床是制造工业走向现代化的重要基础。数控全自动曝光机的设计涵盖了机械设计、电子技术、光学等方面的知识,其机械结构随着电子技术在机床上的广泛应用及人们对机床性能参数要求的提高,而发生了改变。根据客户对产品的... 数控技术和数控机床是制造工业走向现代化的重要基础。数控全自动曝光机的设计涵盖了机械设计、电子技术、光学等方面的知识,其机械结构随着电子技术在机床上的广泛应用及人们对机床性能参数要求的提高,而发生了改变。根据客户对产品的需求,结合目前国内外数控设备的研究现状和发展方向,具体阐述了一种多功能运动的数控机床设计和开发过程。本文主要完成的工作是对数控机床总体方案的确定,分析了曝光机常见几种布局结构,确定了机床的基本结构为放卷,曝光,收卷三部分组成。通过对该设备的基本结构、尺寸进行了详细的设计、计算,利用UG对数控机床的结构进行三维建模,更加直观地展现设计思想。 展开更多
关键词 动力源 涨力传感器 电气比例阀 自动曝光光源
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同步辐射曝光特性计算
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作者 胡作进 《安徽建筑工业学院学报(自然科学版)》 2001年第2期73-75,共3页
微型机械技术给工业领域带来了深刻的变革 ,它被认为是未来工业的一项基础技术 ,在全世界正被广泛的研究。 LIGA技术是制作微电子机械的一种重要加工方法。本文主要对合肥同步辐射光源用于 LIGA技术时的曝光时间和曝光特性进行了计算分析。
关键词 同步辐射光源 曝光时间 曝光特性
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绝对式光栅尺母光栅刻划装置的设计 被引量:1
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作者 郑黎明 谭向全 《机电产品开发与创新》 2014年第2期108-109,79,共3页
简述了绝对式光栅尺母光栅刻划装置的设计方案。针对曝光光源均匀性、图案畸变、精确放大倍率等难点问题,设计了刻划装置的专业装调方案。同时利用刻划装置的物理样机进行曝光加工,得到了满足设计要求的母光栅码道图案。
关键词 绝对式光栅尺 母尺光栅 刻划装置 曝光光源
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普通PS版感光特性的研究
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作者 郭明瑜 洪亚兰 《无线互联科技》 2016年第9期105-106,共2页
从1995年后,计算机直接制版技术开始迅速发展。在出版印刷行业广泛融入先进技术,摒弃旧的模式。CTCP开创首例。在制版以及印前处理上起到推动的作用,CTP具有网点损失小,而且曝光能量集中,还能由计算机自动控制。具有显著的优势。此技术... 从1995年后,计算机直接制版技术开始迅速发展。在出版印刷行业广泛融入先进技术,摒弃旧的模式。CTCP开创首例。在制版以及印前处理上起到推动的作用,CTP具有网点损失小,而且曝光能量集中,还能由计算机自动控制。具有显著的优势。此技术的兴起,已经成为国内外目前印刷行业的主流技术。就目前而言,数字化技术以及与激光技术的完美结合,研究出红外激光热敏版、紫激光版、银盐紫激光版等先进的研究技术。国内印刷行业,采用CTP技术和普通PS版技术(CTCP),采用后者比较普遍。因为前者设备昂贵,而且成本相当高,工艺制作方面相对比较复杂。但是,CTP制作工艺精良,若能在与普通ps版进行结合,有可能提高我国印刷产业在国际水平中的地位。 展开更多
关键词 普通ps版感光 印刷业 工艺制作 曝光光源 技术研究 重氮盐
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光式印字机
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作者 谢强 张波 《办公设备技术与信息》 2002年第1期29-32,共4页
关键词 光式印字机 曝光光源 分类 结构 电子照相 光式打印机 原理
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PhotobleaChing Influence in Different Phases for Coumarin 307 and Acriflavine Laser Dyes
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作者 Baha Toamma Chiad A1-Khfaji Abbas Jasim Hummadi Al-Wattai +4 位作者 Qusay Raghib Ali AI-Taai Maab HafidhTawfeek A1-Hafidh Nathera Abbas Ali Wesam Abed Ali Mohamed Twej Zainab Sabih Sadik 《Journal of Physical Science and Application》 2013年第2期65-71,共7页
Under high-excitation irradiance conditions to induce fluorescence, the dependence of photobleaching of Coumarin 307 (C307) and acriflavine (ACF) laser dyes in liquid and solid phases have been studied. A cw LD la... Under high-excitation irradiance conditions to induce fluorescence, the dependence of photobleaching of Coumarin 307 (C307) and acriflavine (ACF) laser dyes in liquid and solid phases have been studied. A cw LD laser source of 1 mW and 407 nm wavelength was used as an exciting source. For one hour exposure time, it was found that the solid dye samples suffer photobleaching more than the liquid dye samples. This is because in liquid solutions the dye molecules can circulate during the irradiation, while the photobleaching is a serious problem when the dye is incorporated into solid matrix and cannot circulate. 展开更多
关键词 Photobleaching organic laser dyes dye-doped PMMA
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