压力容器凸缘焊缝γ射线偏心一次曝光工艺研究

从凸缘焊缝检测工艺改进入手,建立采用γ射线偏心一次曝光工艺检测凸缘焊缝的方法,使用此方法对6台液化气球罐凸缘焊缝进行检测,通过与单片曝光方法对比,产品检测总时间缩短48天,项目检测人工费用节省28800元,检测人员受到残余射线辐射危害大大降低。验证了γ射线偏心一次曝光工艺的可行性,可有效提高检测效率和检测工作的安全性。

TFT-LCD用黑色光刻胶材料对曝光过程Mark读取的影响

大尺寸薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,TFT-LCD)显示器为节省黑色矩阵(Black Matrix,BM)制程降低面板成本,使用黑色膜柱(Black Photo Spacer,BPS)技术替代BM和PS(Photo Spacer)制程,同时为兼顾对组精度提升的需求,采用BOA(BPS on Array)技术,将BPS转移至阵列基板侧。原BM制程是第一道制作,而新的BPS制程则位于阵列最后一道制程。BPS曝光成型需使用阵列前制程的金属标(Metal Mark)进行精准对位,实现精细化图案。BPS的透过率低,致使CCD摄像机透过BPS抓取前制程的金属标进行对位非常困难。针对该技术难题,对曝光设备抓标的原理进行了分析,通过调整材料颜料组成,获取了不同透过率BPS材料。将不同透过率的BPS材料进行曝光成型,研究曝光对位过程对材料透过率的最低要求,同时遮光度尽可能大。实验结果表明,NSK曝光机对位灯源波长位于780~1000 nm红外区域,在该波段BPS材料透过率低于23%时会导致对位失败。通过使用有机-无机混合颜料组成取代有机混合颜料,在红外波段可获得接近90%的透过率,满足对位需求。同时固化成型后可获得1.2/μm光学密度,满足BPS产品遮光特性需求。以此制作的BPS面板光学指标满足产品规格。

接触接近式曝光机曝光方式浅析及实例

不同的曝光方式适应不同的曝光工艺,对接触接近式曝光机的曝光方式进行了研究,分析了不同曝光方式适用的场合。并给出了一个通过改进曝光方式实现曝光工艺的成功实例,进一步证明了将产品生产工艺知识融入到半导体设备设计研发过程中的必要性。

厚胶光刻工艺技术

通过对Ma-p100正性厚胶光刻技术的研究,初步解决了厚胶工艺易出现的胶的均匀性问题,厚胶长时间曝光工艺,用普通曝光机获得了厚度为60μm,分辨率为20μm的厚胶图形。

基于双掩模光刻机的真空复印机构与工艺研究

介绍了双面光刻机的类型、工作原理及特点,研究分析了双掩模光刻机的曝光方式,提出了一种通过改进曝光模式、提高双掩模光刻机曝光分辨率及基片曝光线条均匀性的方法,并通过生产线工艺验证及数据分析,得出通过该工艺曝光模式,满足生产线实际工艺要求。

厚胶光刻工艺技术

本文通过对SU-8 2075负性光刻胶技术的研究,初步解决了厚胶工艺中易出现的胶的均匀性问题,并研究了厚胶曝光工艺。用EVG620型曝光机获得了厚度为100μm、高分辨率的厚胶图形。

不用大尺寸掩膜版的曝光机

V．Tech．公司开发了6、7代TFT-LCD生产线的不用大尺寸掩膜版的曝光机。该曝光设备只要设定基板第一层的图形之后，在不使用大尺寸掩膜版的情况下能够完成后面工序的曝光工艺；同时具有图形监测系统和许多个曝光光源，以及在基板移动方向上约5cm宽度的形成图形的掩膜版装置，可边移动基板边曝光，

小直径压力容器后装封头环焊缝γ射线检测工艺研究

本文从小直径压力容器后装封头环焊缝检测工艺改进入手,建立利用容器手孔实施γ射线中心曝光工艺检测后装封头环焊缝的方法,通过与X射线双壁单影法对比,不但提高了检测效率和底片质量,还使检测人员受到残余射线辐射危害大大降低。验证了γ射线中心曝光工艺的可行性,可有效提高检测效率、质量和检测工作的安全性。

未确认Mura分析及改善对策

未确认Mura是一种能够影响TFT-LCD画面品质的不良。文章对未确认Mura不良进行了详细的分析,认为扇形区域出现有源层残留是导致未确认Mura不良发生的原因,介绍了一种通过变更曝光工艺条件来解决此种不良的方法,并通过试验论证了此方法的量产可行性。

半色调掩膜在TFT-LCD中的应用

随着彩色显示的快速发展,LCD的彩色化无可逆转。据市场调查机构的统计,到2010年,LCD彩色化比率将高达94%。在液晶面板生产商不断投建高世代线、扩大生产规模的今天,各液晶面板厂商面对强大的市场竞争压力,其液晶面板制造的利润已大大摊薄。在竞争加剧、价格持续跳水的市场压力下,降低成本已是各面板厂维持生存的必要手段。降低原材料成本、减少生产工艺流程等级手段已被各公司采用。以此来压缩生产成本,提高企业利润额,提升市场竞争力。采用半色调掩膜版(Half Tone Mask),把两道上曝光工艺完成的工序合并为一个,节省一道曝光工序,缩短了生产周期,提高了生产效率,降低了生产成本,提高了市场竞争能力。文章分为:一、半色调掩膜(Half Tone Mask)工艺和原理;二、半色调掩膜(Half Tone Mask)在TFT-LCD Array基板制作中的应用;三、半色调掩膜(Half Tone Mask)在TFT-LCD(薄膜晶体管液晶显示器件)CF基板制作中的应用。

TFT-LCD彩色滤光片大屏拼接技术

LCD液晶显示屏具有高分辨率、厚度薄、重量轻、低能耗、长寿命、无辐射的优点。随着窄边框LCD液晶显示屏的出现,使LCD液晶显示屏的无缝拼接成为可能。彩色滤光片(Color filter)是一种表现颜色的光学滤光片,它可以精确选择欲通过的小范围波段光波,而反射掉其他不希望通过的波段。它是TFT-LCD面板中形成彩色化必不可少的部件。另外,还需透过彩色滤光片的红(R)、绿(G)、蓝(B)三种彩色层提供色相,形成彩色显示画面。作为新型平板显示器(TV)的核心组件,伴随用户需求的不断提高,液晶产品的尺寸越来越大,大尺寸显示屏画面更加清晰细腻,液晶大屏幕拼接技术相继出现,更大程度满足了用户的个性化需求。本技术改善了接近式曝光机因掩模板的绕曲度问题无法对应大尺寸产品,彩色滤光片厂商不得不采购价格昂贵的扫描式曝光机的传说。它采用多Shot拼接曝光,完成大于MASK尺寸的彩色滤光片,是拼接曝光工艺的成功实例。解决了低成本接近式曝光机不能使用大尺寸光罩Mask制作大尺寸彩色滤光片的瓶颈,这样大大地降低了设备采购成本。

移动X射线光刻制备等腰三角形结构的PMMA微通道

利用移动X射线光刻工艺,制备了六种不同深宽比的等腰三角形结构的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)微通道。基于毛细管原理,将PMMA微通道与老鼠血液接触,对血液进行了微量采集。该PMMA微通道是中间带有凹槽结构的等腰三角形结构,凹槽结构的宽度为10μm、长度为6.7~39.4μm。将32个高度为35 mm的PMMA微通道的基板垂直插入老鼠血液样品中,通过实验测定了六种不同等腰三角形结构的PMMA微通道的接触角、表面张力及血液上升高度。结果表明,在一定范围内,PMMA微通道的深宽比越大,血液上升越容易,液体提取量也越多。对于通道横截面长度为39.4μm的微通道,样品血液在15 s时的上升高度可达到20.45 mm,达到最终30 s时上升高度的89.9%以上。

应用纳米多孔体同时形成PCB的线路和导通孔的新方法

采用称为纳米孔互连导通孔基板(INPS)的新方法开发了具有无焊盘导通孔的新型挠性印制板。INPS板的特点在于无焊盘导通孔、微细电路、可挠性和可分开的线路。