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凹型Si微透镜阵列的制作 被引量：2
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作者 何苗 易新建 +2 位作者 程祖海 刘鲁勤 王英瑞 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期33-36,共4页
提出了一种新的曲率倒易法首次成功地在Si衬底上制作出 6 4× 2 5 6凹柱面折射微透镜阵列 ,扫描电子显微镜 (SEM)显示微透镜阵列为表面轮廓清晰的凹柱面阵列 ,表面探针测试结果显示凹微透镜阵列表面光滑、单元重复性好 ,其平均凹深... 提出了一种新的曲率倒易法首次成功地在Si衬底上制作出 6 4× 2 5 6凹柱面折射微透镜阵列 ,扫描电子显微镜 (SEM)显示微透镜阵列为表面轮廓清晰的凹柱面阵列 ,表面探针测试结果显示凹微透镜阵列表面光滑、单元重复性好 ,其平均凹深为 2 .6 43μm ,凹深非均匀性为 8.45 % ,平均焦距为 - 47.0 8μm . 展开更多
关键词 SI 凹微透镜阵列 氩离子束刻蚀 硅 制作 曲率倒易法
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