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题名等离子体稳定性对曲面金刚石膜生长的影响
被引量:1
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作者
李多生
周贤良
左敦稳
邹爱华
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机构
南昌航空大学材料学院
南京航空航天大学机电学院
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出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第11期1869-1872,共4页
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基金
国家自然科学基金资助项目(50605032)
江西省教育厅科技资助项目(GJJ09188)
南昌航空大学博士点基金资助项目(EA200901168)
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文摘
采用直流等离子体喷射化学气相沉积(DCPJCVD)制备曲面金刚石膜,等离子体稳定性对金刚石膜生长十分重要。研究表明,曲面金刚石膜长时间生长,阳极积聚石墨碳点,等离子体流动受阻失稳,金刚石膜含较多杂质。通过对阳极除碳处理,可维持稳定的等离子体、稳定的电子温度Te、均匀的活性原子及原子基团密度。制备的金刚石膜经SEM、Raman等表征,发现曲面金刚石膜致密、晶粒均匀,仅发现金刚石特征峰,制备的曲面金刚石膜质量较高。
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关键词
曲面金刚石膜
CVD
直流等离子体
稳定性
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Keywords
convex diamond film
CVD
DC-plasma
stability
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分类号
TG174.442
[金属学及工艺—金属表面处理]
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