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形变的SiGe合金中的深能级
1
作者
乔皓
徐至中
张开明
《应用科学学报》
CAS
CSCD
1996年第3期313-317,共5页
该文对生长在Si、Ge及其合金衬底上形变的Si1-xGex合金中由替位原子或空位缺陷产生的深能级进行了研究.其中形变合金的电子结构用经验的紧束缚方法进行计算,缺陷能级采用格林函数法进行计算.结果表明,晶格中的形变使原...
该文对生长在Si、Ge及其合金衬底上形变的Si1-xGex合金中由替位原子或空位缺陷产生的深能级进行了研究.其中形变合金的电子结构用经验的紧束缚方法进行计算,缺陷能级采用格林函数法进行计算.结果表明,晶格中的形变使原来类p的T2能级发生分裂.形变还造成合金的价带顶有较大的上升,从而使某些杂质的缺陷能级由深能级变为共振能级.
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关键词
替拉缺陷
深能级
形为
硅/锗超晶格
替位杂质
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职称材料
题名
形变的SiGe合金中的深能级
1
作者
乔皓
徐至中
张开明
机构
复旦大学
出处
《应用科学学报》
CAS
CSCD
1996年第3期313-317,共5页
文摘
该文对生长在Si、Ge及其合金衬底上形变的Si1-xGex合金中由替位原子或空位缺陷产生的深能级进行了研究.其中形变合金的电子结构用经验的紧束缚方法进行计算,缺陷能级采用格林函数法进行计算.结果表明,晶格中的形变使原来类p的T2能级发生分裂.形变还造成合金的价带顶有较大的上升,从而使某些杂质的缺陷能级由深能级变为共振能级.
关键词
替拉缺陷
深能级
形为
硅/锗超晶格
替位杂质
Keywords
substitutional defect
deep level
strain
Green's function method
分类号
O471.4 [理学—半导体物理]
TN304.1 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
形变的SiGe合金中的深能级
乔皓
徐至中
张开明
《应用科学学报》
CAS
CSCD
1996
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