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形变的SiGe合金中的深能级
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作者 乔皓 徐至中 张开明 《应用科学学报》 CAS CSCD 1996年第3期313-317,共5页
该文对生长在Si、Ge及其合金衬底上形变的Si1-xGex合金中由替位原子或空位缺陷产生的深能级进行了研究.其中形变合金的电子结构用经验的紧束缚方法进行计算,缺陷能级采用格林函数法进行计算.结果表明,晶格中的形变使原... 该文对生长在Si、Ge及其合金衬底上形变的Si1-xGex合金中由替位原子或空位缺陷产生的深能级进行了研究.其中形变合金的电子结构用经验的紧束缚方法进行计算,缺陷能级采用格林函数法进行计算.结果表明,晶格中的形变使原来类p的T2能级发生分裂.形变还造成合金的价带顶有较大的上升,从而使某些杂质的缺陷能级由深能级变为共振能级. 展开更多
关键词 替拉缺陷 深能级 形为 硅/锗超晶格 替位杂质
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