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各向同性材料中微裂纹的最大屏蔽效应
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作者 左宏 陈宜亨 《力学学报》 EI CSCD 北大核心 1999年第4期493-497,共5页
通过对微裂纹屏蔽不同来源的分析及计算，发现在各向同性脆性材料中，残余应力释放引起的微裂纹对主裂尖产生最大屏蔽效应时该微裂纹的倾角与最大张应力的方向没有明显的对应关系．在Hutchinson[1]所指出的屏蔽效应的第二个来源中，还... 通过对微裂纹屏蔽不同来源的分析及计算，发现在各向同性脆性材料中，残余应力释放引起的微裂纹对主裂尖产生最大屏蔽效应时该微裂纹的倾角与最大张应力的方向没有明显的对应关系．在Hutchinson[1]所指出的屏蔽效应的第二个来源中，还应计及微裂纹形成引起的远场应力在微裂纹处产生的应力场的释放从而导致应力场的再分布． 展开更多
关键词 各向同性 微裂纹屏蔽 最大屏蔽效应 残余应力
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