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真空灭弧室的一次封排工艺
1
作者
魏铁印
《真空电子技术》
2003年第1期42-44,共3页
以真空灭弧室的一次封排工艺的真空度质量为主 ,对真空灭弧室有关的设计、工艺流程等方面进行讨论 ;
关键词
真空灭弧室
一次封排工艺
吸附
有效烘烤时间
激活温度
二次清洗
下载PDF
职称材料
题名
真空灭弧室的一次封排工艺
1
作者
魏铁印
机构
北京真空电子技术研究所
出处
《真空电子技术》
2003年第1期42-44,共3页
文摘
以真空灭弧室的一次封排工艺的真空度质量为主 ,对真空灭弧室有关的设计、工艺流程等方面进行讨论 ;
关键词
真空灭弧室
一次封排工艺
吸附
有效烘烤时间
激活温度
二次清洗
Keywords
Sorption
Desorption
Effective time of bake out
Quadratic Clearing
Activation temperature
分类号
TN107 [电子电信—物理电子学]
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作者
出处
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1
真空灭弧室的一次封排工艺
魏铁印
《真空电子技术》
2003
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