二维Manhattan格点上端点附壁自避行走的计算机模拟

采用精确计数法 ,计算了二维Manhattan格点上端点附壁自避行走的构象数CN,均方末端距R2 N,和均方回转半径Rg2 N,最长链长分别达到 5 0 ,5 0和 35步 .通过比率法和Pad啨近似法 ,处理精确计数数据得到有效配位数 μ =1.73377,标度指数γ =0 .934,ν =0 .7334.发现二维Manhattan格点上端点附壁自避行走的γ值和普通方格子上的相应值相同 ,且 μ值与二维Manhattan格点上的自由SAW的相应值一致 .由尺寸参数R2 N,R2 ∥ ,R2 ⊥,Rg2 N,Rg2 ∥ 和Rg2 ⊥ 随链长N的变化发现 ,壁对几何尺寸的影响十分明显 .

基于可破碎离散元法的堆石料应力变形及剪胀特性缩尺效应研究

缩尺效应对堆石料应力变形及剪胀特性有显著的影响,当前对其缩尺规律已有诸多认识,但缩尺机理仍不清晰。为进一步揭示堆石料缩尺效应产生机理,基于可破碎离散元法,通过开展不同尺寸试样的数值三轴剪切试验,探讨堆石料力学变形缩尺规律,并从宏、细观层面深入分析试样剪胀特性的缩尺规律,揭示其产生的细观机理。研究表明:试样尺寸越大,抗剪强度越低,剪缩性越强,且试验围压越高,这一现象越显著;采用相似级配法缩尺得到的不同尺寸试样初始承力结构相似,但尺寸越大的试样其承力结构越稀疏;试样尺寸越大,各粒径组有效配位数分布的降低程度减弱,且围压越大时越明显;各粒径组有效配位数分布的演化与试样颗粒破碎率成正相关,试样颗粒破碎率越大,各粒径组有效配位数分布上抬越多;不同尺寸试样间各粒径组有效配位数分布差演化的差异是试样剪胀特性缩尺规律产生的细观机理之一。

硒化钨拉曼光谱层数效应

应用键弛豫理论(BOLS)对层状硒化钨材料的拉曼光谱进行定量分析,得出了硒化钨层数与键参数的数值函数关系。澄清了硒化钨拉曼频移层数效应的内在起因:硒化钨层数增加时,拉曼振动模A1g发生蓝移是由于最近邻原子的影响;成键原子控制着硒化钨拉曼E12g模和B12g模的红移。