溶胶-凝胶法制备有机/无机复合疏水薄膜的研究

研究了以聚四氟乙烯 (PTFE)、硅溶胶为主要原料 ,利用溶胶 -凝胶法在玻璃表面制备了SiO2 /聚四氟乙烯有机 /无机复合薄膜。分别用XRD ,IR ,SEM ,TG -DTA等测试手段分析了涂膜在热处理过程中所发生的物理 -化学变化 ,以及薄膜材料的组成、结构、表面形貌。研究表明 :在复合薄膜材料中 ,PTFE与SiO2 形成相互贯穿的无规网状结构 ,薄膜与基材附着力良好 ,表面呈现出良好的疏水性能。

有机/无机复合透明耐磨薄膜的制备

以甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(KH-570)水解聚合产物作为主要成膜物质,引入正硅酸乙酯(TEO S)水解产物硅溶胶作为无机增强物,调节两种混合溶液pH值,利用两者羟基之间的共缩聚反应在聚碳酸酯(PC)板表面制备有机/无机复合透明耐磨薄膜;采用TG/DTA、FT-IR、SEM及UV-V IS对成膜过程、薄膜性能与结构进行表征。结果表明,KH-570和TEO S水解聚合产物通过共缩聚反应在PC板表面形成带有有机基团的无机交联网络,基本骨架由S i-O-S i组成,经120℃热处理后,薄膜均匀致密,提高了PC板的耐磨性,并有一定的增透作用。

仿珍珠层自组装制备有机/无机纳米复合薄膜

模仿珍珠层结构,采用蒸发诱导自组装的方法,在石英片表面制备了聚三缩丙二醇双丙烯酸酯(PTPG-DA)/SiO2纳米复合薄膜,采用FT-IR、XRD和TEM等分析技术对薄膜结构进行了表征,测试了其摩擦力学行为,并初步讨论了纳米复合薄膜的形成机理。结果表明,所制备的薄膜具有有机/无机有序交替的层状纳米复合结构,其聚合前的层间距为2.65 nm,聚合后的层间距为2.35 nm。聚合后的纳米复合薄膜具有较好的减摩性能。

有机-无机纳米复合功能薄膜的研制

将经过表面化学修饰的纳米粒子引入聚合胶体,制备了一系列具有特殊功能的有机-无机纳米复合薄膜材料. 聚合胶体通过控制硅氧烷前驱物的水解-聚合过程制备,纳米粒子包括ZrO2, SiC, AlOOH和ZnO等. 纳米粒子经过溶胶-凝胶过程对其进行表面改性,以改善其分散性能、优化界面结合或防止体系中有机组份的老化. 纳米粒子的作用主要是赋予传统的有机-无机杂化材料“第三功能”,如耐擦伤、耐腐蚀、抗紫外线等性能.

LBL技术制备有机/无机纳米复合薄膜研究进展

将高分子和各种功能的无机纳米粒子通过层层吸附自组装技术进行组装,制备厚度可控和稳定性好的有机/无机纳米复合薄膜。综述了该领域研究的最新进展,介绍了利用LBL技术制备有机/无机纳米复合薄膜的方法,并对利用LBL技术制备有机/无机纳米复合薄膜的发展趋势作了展望。

溶胶-凝胶法制备透明无机-有机纳米复合硬质薄膜

利用旋覆法通过溶胶－凝胶（Ｓｏｌ－ｇｅｌ）法在有机玻璃（ＰＭＭＡ）表面制备无机－有机硬质薄膜，产品具备致密、透明、耐擦伤等性能．纳米氧化物颗粒在体系中均匀分布，使硬度及耐擦伤性能较有机玻璃均有较大提高．

AlOOH纳米胶体制备及其在有机-无机纳米复合薄膜中的应用

采用胶体化学方法制备了不同形貌的纳米AlOOH胶体,并将其作为功能组分用于制备有机-无机纳米复合薄膜.采用的有机体系为有机硅烷单体,基底材料为有机玻璃(PMMA).研究发现:纳米AlOOH粒子在薄膜体系中分散均匀,使薄膜具有透明、硬质等特点,赋予了PMMA表面优良的耐擦伤和耐磨损性能,而且可以利用纳米粒子形貌特征调控薄膜的性能.

基于PVK/PbS纳米晶有机无机复合薄膜电双稳器件性能研究

通过简单旋涂方法,制备了一种基于硫化铅(PbS)纳米晶与聚乙烯基咔唑(PVK)的有机/无机复合薄膜电双稳器件,并对所制备的器件进行性能测试及其电荷传输机制研究。首先采用热注入的方法制备了尺寸均一的立方形PbS纳米晶,然后将PbS纳米晶与PVK聚合物混合作为活性层材料,制备了有机/无机复合薄膜电双稳器件。该器件展示了良好的电双稳特性并且可以实现稳定的"读-写-读-擦"操作。器件的最大电流开关比能够达到104。并进一步对器件在正向电压下的I-V曲线进行了理论拟合,发现在不同电流传导状态下,器件符合不同的电传导模型。进而分析了该电双稳器件中的电荷传输机制,认为在电场的作用下,发生在纳米晶与聚合物之间的电场诱导电荷转移是产生电双稳特性的主要原因。

有机/无机纳米复合薄膜的制备研究

本文利用层层静电自组装构筑了壳聚糖/硅钨酸-Ag纳米粒子复合薄膜,硅钨酸既作为成膜物质,又作为稳定剂和还原剂。

晶体人生丨陶绪堂:从有机-无机复合材料走进多彩晶体世界

有机-无机复合材料因其涉及范围更广,材料设计的可选择性大,同时可以兼具无机和有机材料的优点,近年来受到国内外研究人员的高度关注。此次访谈中,陶绪堂教授首先回顾了山东大学晶体材料研究所和晶体材料国家重点实验室在蒋民华院士带领下,开展有机-无机复合非线性光学晶体材料(LAP)研究,并获得国家发明一等奖的历程,介绍了课题组目前在有机-无机复合晶体材料方面的研究进展,结合自身科研历程,重点分析了目前有机-无机复合材料发展的趋势和存在的主要问题,展望了有机-无机复合晶体薄膜在能源领域的应用潜力。最后指出要想从诸多有机-无机复合晶体中产生新的“中国牌”晶体,需要大家共同努力的方向。

磷石膏的疏水改性研究现状及进展

磷石膏是湿法生产磷酸排放的固体废弃物,每生产1 t磷酸就会排出约5 t磷石膏。磷石膏表面具有亲水性,在高湿度环境下或接触水分之后易出现溶融蠕变效应,对力学性能造成负面影响,限制了其在建筑材料领域中的应用。全面综述了3种制备疏水磷石膏基材料的方法:表面疏水涂层、内掺疏水剂、有机/无机复合。通过比较各方法的优缺点,发现有机/无机复合能整体提高磷石膏基材料的疏水性和力学性能。

上海硅酸盐所在有机-无机复合热电材料领域取得重要进展

近日,中国科学院上海硅酸盐研究所陈立东研究员、姚琴副研究员的研究团队在聚3,4-乙烯二氧噻吩(PEDOT)基有机/无机复合热电材料领域取得重要进展。该团队采用新型氧化剂,通过自抑制聚合法,获得了高膜厚无气孔PEDOT:DBSA-Te量子点复合热电薄膜。

仿贝壳结构的自组装纳米复合薄膜的制备、表征及摩擦学性能研究

利用超分子自组装方法在普通玻璃表面制备了仿贝壳有机 -无机复合纳米薄膜 .采用X射线衍射仪、傅立叶红外光谱仪、X射线光电子能谱仪及透射电子显微镜等对薄膜结构进行了表征 .用动 -静摩擦系数测定仪初步考察了其摩擦行为 .结果表明 ,这种薄膜具有机 -无机有序交替的层状纳米复合结构 ,其聚合前的层间距为 4 .2 0nm ,聚合后的层间距为 3.91nm .

溶胶-凝胶法制备纳米复合透明保护薄膜

以正硅酸乙酯、钛酸丁酯、异丙醇铝和γ 缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷为先驱体,通过分步水解法制得SiO2 TiO2 Al2O3复合溶胶,利用提拉法在普通玻璃表面镀制无机 有机复合透明保护薄膜,通过各种测试方法,对SiO2 TiO2 Al2O3复合薄膜的结构和性质进行了分析,结果表明该薄膜具有致密、透明、耐磨擦等性能。由于铝、钛纳米氧化物颗粒的存在,使得硬度及耐磨擦性能比纯SiO2薄膜均有较大的提高。

仿贝壳自组装纳米复合薄膜的制备及结构表征

利用超分子自组装方法在普通玻璃表面制备了仿贝壳有机-无机复合纳米薄膜.采用X射线衍射仪、傅立叶红外光谱仪、紫外-可见吸收光谱仪、透射电子显微镜对薄膜结构进行了表征.结果表明这种薄膜具有有机-无机有序交替的层状纳米复合结构,聚合前层间距为4.20nm,聚合后层间距为3.91nm.无机层由TiO2纳米微粒构成.

纳米硅溶胶/丙烯酸复合防蚀薄膜的研究

为了寻找一种镀锌层表面用无铬钝化剂 ,研究以水溶性丙烯酸树脂为成膜物质 ,纳米硅溶胶为颜料 ,用浸涂法在热镀锌板上制备有机 /无机复合薄膜 ,并利用SEM、浸水、中性盐雾试验等测试手段分析了薄膜表面形态、吸水率和耐盐雾性能。结果表明 ,在复合薄膜中丙烯酸与SiO2 形成互相贯穿的无规网络结构 ,薄膜与镀锌板结合力良好 ,表面呈现出良好的抗白锈能力 ,其耐蚀性能是热镀锌板的 4倍。

二氧化钛/聚乙烯吡咯烷酮纳米复合薄膜的制备与表征

采用溶胶-凝胶法(so1 gel)制备了TiO2/聚乙烯吡咯烷酮(PVP)有机 无机纳米复合薄膜.采用扫描电子显微镜、接触角测定仪、红外光谱仪、紫外 可见吸收光谱仪和静 动摩擦系数测定仪对所制备的TiO2/PVP纳米复合薄膜进行了结构表征和性能研究.结果表明:所制备的TiO2/PVP纳米复合薄膜表面平整光滑、无裂纹、具有一定的疏水性、良好的透明性、防紫外线性能和减摩抗磨性能.

涂层工艺对KH570-SiO_2复合薄膜耐腐蚀性能的影响

采用溶胶-凝胶法,以正硅酸乙酯(TEOS)和γ-甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷(KH570)为前驱体,在碳素钢片上和铝片上制备有机-无机复合防腐薄膜。本实验采用盐雾腐蚀实验对复合薄膜的防腐蚀性能进行了表征,探讨了两种前驱体比例、pH值、回流温度等溶胶凝胶过程工艺条件对防腐涂层结构及防腐性能的影响,并初步比较了不同基板上薄膜的耐腐蚀性能。结果表明,当TEOS/KH570=1∶1,pH值为4.5时达到最佳防腐性能:在铝板上能够耐盐雾腐蚀240小时以上和钢板上耐盐雾腐蚀8小时以上。

CuPc/ZnS多层复合薄膜的制备及光电性能的研究

为了找到制备具有最佳光电导性能的CuPc/ZnS多层复合薄膜的工艺参数 ,研究了CuPc/ZnS多层复合膜的层数系列、CuPc膜层的厚度系列、ZnS膜层的厚度系列和基板温度系列的光电导性能和结构。利用表面电位衰减、紫外 可见光谱和X射线衍射分析了复合薄膜的光电导性能和结构及其关系 ,探讨了改变复合膜层数。

膜层厚度对CuPc/ZnS多层复合薄膜光电性能的影响

为了找到制备CuPc ZnS多层复合膜薄膜最佳光电导性能的参数 ,本文研究了CuPc ZnS多层复合膜的CuPc膜层的厚度系列、ZnS膜层的厚度系列的光电导性能和结构 ,利用表面电位衰减仪、紫外 -可见光谱仪和X射线衍射仪等设备分析了复合薄膜的光电导性能和结构及其关系 ,探讨了改变CuPc、ZnS膜层的厚度对CuPc