以碳化硅(S i C)、氮化镓(G a N)为代表的第3代半导体材料具有高热导率、高击穿场强、高饱和电子漂移速率和高键合能等优点,能够满足现代电子技术对高温、高功率、高压、高频及抗辐射等条件的要求,在太阳能、半导体照明、智能电...以碳化硅(S i C)、氮化镓(G a N)为代表的第3代半导体材料具有高热导率、高击穿场强、高饱和电子漂移速率和高键合能等优点,能够满足现代电子技术对高温、高功率、高压、高频及抗辐射等条件的要求,在太阳能、半导体照明、智能电网等众多领域应用不仅可以减少一半以上的能量损失,而且可以使装备体积大大缩小(如笔记本电脑适配器可减小80%,一个电站将只有手提箱那么大),在国防安全、航空航天、新能源、光存储、石油勘探等多个领域有着广阔的应用前景。正是由于第3代半导体材料的优异性能、未来广阔的应用空间以及对国家安全、经济发展、节能环保等多个方面可能带来的巨大影响,使之成为各国竞相发展的战略高地。展开更多
据日本产经新闻报导,东京应化工业股份有限公司与长春石油化学股份有限公司(长春石化)合资成立的长春应化(常熟)有限公司(Chang Chun TOK公司),于2005年4月底,半导体及液晶面板生产用材料的新工厂已完成测试,即将开始量产。...据日本产经新闻报导,东京应化工业股份有限公司与长春石油化学股份有限公司(长春石化)合资成立的长春应化(常熟)有限公司(Chang Chun TOK公司),于2005年4月底,半导体及液晶面板生产用材料的新工厂已完成测试,即将开始量产。长舂应化公司系专门制造及销售高纯度化学药品,主要应用于半导体及液晶生产领域的微影工艺中,鉴于中国半导体及液晶面板生产工厂如雨后舂笋,材料的需求日益增加,因此东京应化在中国设厂,建构与客户紧密联系与安定供给产品的体制,适应急速扩大的需求.展开更多
北京有色金属研究总院(Grinm)、有研半导体材料股份有限公司(Gritek)张厥宗编著的《半导体材料硅单晶抛光片的加工技术》一书近期将由《化学工业出版社》出版。《半导体材料硅单晶抛光片的加工技术》在内容上采取由浅入深的方式,在介绍...北京有色金属研究总院(Grinm)、有研半导体材料股份有限公司(Gritek)张厥宗编著的《半导体材料硅单晶抛光片的加工技术》一书近期将由《化学工业出版社》出版。《半导体材料硅单晶抛光片的加工技术》在内容上采取由浅入深的方式,在介绍半导体硅及集成电路有关知识的同时,简单介绍半导体工业及国外、国内半导体材料硅(Si)单晶、抛光片技术的发展和动态外,结合能满足小于线宽0.13~0.10μm IC 工艺用优质大直径硅(Si)单晶抛光片的加工技术进行全面、系统的概述。全书共分八章。第一章介绍半导体工业发展及动态和国外、国内硅(Si)单晶、抛光片的发展概况;第二章介绍半导体材料硅(Si)的物理、化学及其半导体的性质;第三章介绍集成电路对硅(Si)单晶、抛光片的技术要求及硅(Si)单晶、抛光片的制备;展开更多
文摘以碳化硅(S i C)、氮化镓(G a N)为代表的第3代半导体材料具有高热导率、高击穿场强、高饱和电子漂移速率和高键合能等优点,能够满足现代电子技术对高温、高功率、高压、高频及抗辐射等条件的要求,在太阳能、半导体照明、智能电网等众多领域应用不仅可以减少一半以上的能量损失,而且可以使装备体积大大缩小(如笔记本电脑适配器可减小80%,一个电站将只有手提箱那么大),在国防安全、航空航天、新能源、光存储、石油勘探等多个领域有着广阔的应用前景。正是由于第3代半导体材料的优异性能、未来广阔的应用空间以及对国家安全、经济发展、节能环保等多个方面可能带来的巨大影响,使之成为各国竞相发展的战略高地。
文摘据日本产经新闻报导,东京应化工业股份有限公司与长春石油化学股份有限公司(长春石化)合资成立的长春应化(常熟)有限公司(Chang Chun TOK公司),于2005年4月底,半导体及液晶面板生产用材料的新工厂已完成测试,即将开始量产。长舂应化公司系专门制造及销售高纯度化学药品,主要应用于半导体及液晶生产领域的微影工艺中,鉴于中国半导体及液晶面板生产工厂如雨后舂笋,材料的需求日益增加,因此东京应化在中国设厂,建构与客户紧密联系与安定供给产品的体制,适应急速扩大的需求.
文摘北京有色金属研究总院(Grinm)、有研半导体材料股份有限公司(Gritek)张厥宗编著的《半导体材料硅单晶抛光片的加工技术》一书近期将由《化学工业出版社》出版。《半导体材料硅单晶抛光片的加工技术》在内容上采取由浅入深的方式,在介绍半导体硅及集成电路有关知识的同时,简单介绍半导体工业及国外、国内半导体材料硅(Si)单晶、抛光片技术的发展和动态外,结合能满足小于线宽0.13~0.10μm IC 工艺用优质大直径硅(Si)单晶抛光片的加工技术进行全面、系统的概述。全书共分八章。第一章介绍半导体工业发展及动态和国外、国内硅(Si)单晶、抛光片的发展概况;第二章介绍半导体材料硅(Si)的物理、化学及其半导体的性质;第三章介绍集成电路对硅(Si)单晶、抛光片的技术要求及硅(Si)单晶、抛光片的制备;