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硅片纳米磨削过程中磨粒切削深度的测量 被引量:2
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作者 霍凤伟 康仁科 +2 位作者 赵福令 金洙吉 郭东明 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2006年第5期69-73,共5页
分析了硅片纳米磨削过程中磨粒切削深度的特点,采用基于扫描白光干涉原理的三维表面轮廓仪对磨削后硅片表面的磨削沟槽的深度和宽度进行了测量,进而对磨削沟槽的深度和未变形切屑的横截面的宽高比进行了统计分析。研究表明,采用硅片... 分析了硅片纳米磨削过程中磨粒切削深度的特点,采用基于扫描白光干涉原理的三维表面轮廓仪对磨削后硅片表面的磨削沟槽的深度和宽度进行了测量,进而对磨削沟槽的深度和未变形切屑的横截面的宽高比进行了统计分析。研究表明,采用硅片自旋转磨削方法对硅片进行纳米磨削时,参与切削的磨粒数量极少,起主要切削作用的磨粒只占有效磨粒数量的一小部分,此部分磨粒的切削深度大于砂轮的切削深度,甚至可达后者的2倍;未变形切屑的截面为三角形,其宽高比在21~153之间,平均值为69。 展开更多
关键词 硅片 纳米磨削 磨粒切削深度 变形切屑厚度 未变形切屑宽高比
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