二次光力耦合与参量放大器对本征模劈裂的影响

本文基于一个含有光学参量放大器的腔光力系统,其中腔场和机械场之间具有线性和二次色散耦合的相互作用,研究了二次光力耦合与参量放大器对本征模劈裂的重要影响。通过分析腔场涨落项的输出谱和机械振子位移的涨落谱,得出结论:腔场和机械场均呈现出本征模劈裂的现象,光学参量放大器非线性增益值的大小及二次光力耦合强度均正比于劈裂谱两峰之间的距离,即二者对本征模劈裂效应具有相似的调控作用。本文同时也验证了文献[Journal of Modern Optics,66(5):494–501(2019)]的结论:具有线性和二次耦合的光力系统可以是含有光学参量放大器混合光力系统的一个替代研究平台。

参量放大器腔中光力诱导透明与本征模劈裂性质

研究了在含有光学参量放大器的光力学腔中关于弱探测光的光力诱导透明与本征模劈裂的性质.研究发现,光学参量放大器的驱动场相位和非线性增益值的大小对光力诱导透明窗口宽度和本征模劈裂性质有非常重要的影响,特别是当控制光频率工作在光力学红边带下,通过适当调制相位和非线性增益可以实现比空腔时(没有光学参量放大器时)还狭窄的光力诱导透明窗口,此时伴随着陡峭的色散曲线.这些研究结果有利于在光力耦合系统中实现快慢光、光存储等量子信息处理过程.