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基于磨粒三维轨迹的钽酸锂双面研磨均匀性
1
作者
薛赛赛
郭晓光
+2 位作者
贾玙璠
高尚
康仁科
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第13期2081-2090,共10页
为了改善钽酸锂(LiTaO_(3),LT)晶片的材料去除均匀性,提出一种考虑磨粒三维微切削的材料去除均匀性模型。根据钽酸锂晶体脆/塑性去除机理,结合研磨垫表面磨粒的分布特征,运用力平衡方程计算了研磨垫上各磨粒的切入深度与切屑截面积。通...
为了改善钽酸锂(LiTaO_(3),LT)晶片的材料去除均匀性,提出一种考虑磨粒三维微切削的材料去除均匀性模型。根据钽酸锂晶体脆/塑性去除机理,结合研磨垫表面磨粒的分布特征,运用力平衡方程计算了研磨垫上各磨粒的切入深度与切屑截面积。通过运动学分析推导了双面研磨中磨粒运动轨迹方程,建立了考虑磨粒三维微切削的材料去除均匀性模型,并研究了齿圈与太阳轮转速比m、下研磨盘与太阳轮转速比n对材料去除均匀性的影响。最后,开展了钽酸锂晶片固结磨料双面研磨实验,测量了不同转速比m,n下晶片的总厚度变化,验证了模型。实验结果表明:材料去除均匀性受转速比m,n的影响较大,当转速比m,n分别为0.85,1.3时材料去除均匀性最佳,此时晶片的总厚度变化为0.83μm,实验结果与仿真一致。所建模型对改善钽酸锂晶片双面研磨材料的去除均匀性有一定的指导意义。
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关键词
固结磨料研磨
钽酸锂晶片
磨粒运动轨迹
材料去除均匀性
下载PDF
职称材料
题名
基于磨粒三维轨迹的钽酸锂双面研磨均匀性
1
作者
薛赛赛
郭晓光
贾玙璠
高尚
康仁科
机构
大连理工大学高性能精密制造全国重点实验室
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第13期2081-2090,共10页
基金
国家自然科学基金资助项目(No.52175382)。
文摘
为了改善钽酸锂(LiTaO_(3),LT)晶片的材料去除均匀性,提出一种考虑磨粒三维微切削的材料去除均匀性模型。根据钽酸锂晶体脆/塑性去除机理,结合研磨垫表面磨粒的分布特征,运用力平衡方程计算了研磨垫上各磨粒的切入深度与切屑截面积。通过运动学分析推导了双面研磨中磨粒运动轨迹方程,建立了考虑磨粒三维微切削的材料去除均匀性模型,并研究了齿圈与太阳轮转速比m、下研磨盘与太阳轮转速比n对材料去除均匀性的影响。最后,开展了钽酸锂晶片固结磨料双面研磨实验,测量了不同转速比m,n下晶片的总厚度变化,验证了模型。实验结果表明:材料去除均匀性受转速比m,n的影响较大,当转速比m,n分别为0.85,1.3时材料去除均匀性最佳,此时晶片的总厚度变化为0.83μm,实验结果与仿真一致。所建模型对改善钽酸锂晶片双面研磨材料的去除均匀性有一定的指导意义。
关键词
固结磨料研磨
钽酸锂晶片
磨粒运动轨迹
材料去除均匀性
Keywords
fixed abrasive lapping
lithium tantalate
particle trajectory
material removal planarization
分类号
TH161.1 [机械工程—机械制造及自动化]
TG73 [金属学及工艺—刀具与模具]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于磨粒三维轨迹的钽酸锂双面研磨均匀性
薛赛赛
郭晓光
贾玙璠
高尚
康仁科
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024
0
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职称材料
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