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聚变堆第一壁材料溅射装置真空系统设计研究
1
作者
王俊儒
余耀伟
+2 位作者
曹斌
庄会东
胡建生
《真空》
CAS
2021年第5期32-36,共5页
直线等离子体装置(Linear Plasma Device,LPD)是研究托卡马克上边界等离子体与材料相互作用的重要平台。本文针对新建LPD的真空系统设计研制开展了相关研究。该真空系统设计为两级隔断式结构,等离子体放电和材料预处理可以在各自真空腔...
直线等离子体装置(Linear Plasma Device,LPD)是研究托卡马克上边界等离子体与材料相互作用的重要平台。本文针对新建LPD的真空系统设计研制开展了相关研究。该真空系统设计为两级隔断式结构,等离子体放电和材料预处理可以在各自真空腔室同步进行、互不干扰。通过真空测试实验,真空控制系统运行稳定,短时间烘烤后系统极限真空达1.4×10^(-5)Pa,满足LPD对洁净真空环境的要求。
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关键词
材料溅射实验装置
材料
辐照
真空系统
抽速
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职称材料
题名
聚变堆第一壁材料溅射装置真空系统设计研究
1
作者
王俊儒
余耀伟
曹斌
庄会东
胡建生
机构
中国科学院合肥物质科学研究院等离子体物理研究所
中国科学技术大学
出处
《真空》
CAS
2021年第5期32-36,共5页
基金
中科院重大科技基础设施开放研究项目(长脉冲运行中实时抑制钨表面溅射的实验研究)
国家重点研发项目(2017YFE0301100)资助。
文摘
直线等离子体装置(Linear Plasma Device,LPD)是研究托卡马克上边界等离子体与材料相互作用的重要平台。本文针对新建LPD的真空系统设计研制开展了相关研究。该真空系统设计为两级隔断式结构,等离子体放电和材料预处理可以在各自真空腔室同步进行、互不干扰。通过真空测试实验,真空控制系统运行稳定,短时间烘烤后系统极限真空达1.4×10^(-5)Pa,满足LPD对洁净真空环境的要求。
关键词
材料溅射实验装置
材料
辐照
真空系统
抽速
Keywords
material sputtering experimental device
material exposure
vacuum system
pumping speed
分类号
TL628 [核科学技术—核技术及应用]
TB75 [一般工业技术—真空技术]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
聚变堆第一壁材料溅射装置真空系统设计研究
王俊儒
余耀伟
曹斌
庄会东
胡建生
《真空》
CAS
2021
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