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聚变堆第一壁材料溅射装置真空系统设计研究
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作者 王俊儒 余耀伟 +2 位作者 曹斌 庄会东 胡建生 《真空》 CAS 2021年第5期32-36,共5页
直线等离子体装置(Linear Plasma Device,LPD)是研究托卡马克上边界等离子体与材料相互作用的重要平台。本文针对新建LPD的真空系统设计研制开展了相关研究。该真空系统设计为两级隔断式结构,等离子体放电和材料预处理可以在各自真空腔... 直线等离子体装置(Linear Plasma Device,LPD)是研究托卡马克上边界等离子体与材料相互作用的重要平台。本文针对新建LPD的真空系统设计研制开展了相关研究。该真空系统设计为两级隔断式结构,等离子体放电和材料预处理可以在各自真空腔室同步进行、互不干扰。通过真空测试实验,真空控制系统运行稳定,短时间烘烤后系统极限真空达1.4×10^(-5)Pa,满足LPD对洁净真空环境的要求。 展开更多
关键词 材料溅射实验装置 材料辐照 真空系统 抽速
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